CN119913489A 一种工艺腔室及半导体工艺设备 (先材(深圳)半导体科技有限公司).pdfVIP

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  • 2026-11-14 发布于重庆
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CN119913489A 一种工艺腔室及半导体工艺设备 (先材(深圳)半导体科技有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119913489A

(43)申请公布日2025.05.02

(21)申请号202510413316.1

(22)申请日2025.04.03

(71)申请人先材(深圳)半导体科技有限公司

地址518000广东省深圳市龙华区观澜街

道新澜社区观光路1301-33号201

(72)发明人徐彬城逄效伟陆伟伟

(74)专利代理机构深圳市嘉勤知识产权代理有

限公司44651

专利代理师王敏生

(51)Int.Cl.

C23C16/511(2006.01)

C23C16/458(2006.01)

C23C16/455(2006.01)

H01J37/32(2006.01)

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