周期性颗粒膜系统中磁有序转变条件的研究.docVIP

【标题】周期性颗粒膜系统中磁有序转变条件的研究 【作者】舒 义 林 【关键词】磁性颗粒膜,??磁有序,??颗粒磁矩,??反铁磁与铁磁 【指导老师】郑 勇 林 【专业】物理学 【正文】1?引??言：目前不少文献对于磁性颗粒膜的各种性能进行了研究，在文献[1-4]中分别采用真空蒸发工艺和溅射法制备金属合金磁性颗粒膜与和我们用共蒸发法或用一般溅射法制备的磁性颗粒膜，其磁性颗粒分布都是无序状态的。Chien?等首先用溅射法制备出亚稳的FeCu?和CoCu?颗粒膜,?并且较详细地研究了它们的磁性。磁性材料的技术特性,?集中表现在磁化曲线和磁滞回线上,?不同的磁化曲线和磁滞回线可以满足应用上的不同需要。对于在这种情况下颗粒膜的磁性质以及磁性对颗粒尺度、形状及各向异性效应有一定的依赖，结合文献[5、10]可得颗粒膜的磁性随着颗粒尺度的增大而减小，颗粒的矫顽力随颗粒粒径的减小而减少和颗粒的各向异性轴的无规方向的各向异性效应按 1/?因子减少（N?是关联的磁颗粒数）[5]。但是未对在有序分布情况下的周期性颗粒膜系统中的各种磁性质的研究，还未对在周期性磁性颗粒膜系统中磁有序状态下系统的能量、颗粒平均磁矩及铁磁（FM）、反铁磁（AFM）、顺磁（PM）之间的转变条件等问题作出探讨。在1993年和1995年T.L.Hylton等人使用标准平印照相制版技术方法在基底上周期性规则地光刻磁性颗粒，形成园点阵列合成薄膜，并对这种薄膜的静磁相互作用在颗粒边缘层间导致反铁磁耦合和巨磁阻效应进行了研究。且用一较简单的模型计算了相互作用场Hi与颗粒粒径的关系，预言粒径小于3μm时为反铁磁序，而粒径大于4μm为铁磁序，但仍未对周期性磁性颗粒膜系统中磁有序状态下系统的能量、颗粒平均磁矩及铁磁（FM）、反铁磁（AFM）之间的转变条件等问题作出研究[6-7]。1998年Chen Y. J, Cheung W. Y, Wilson I. H, Ke N,?等Magnetic domain?通过用磁力显微镜对Co22Ag78?的磁筹结构进行了观察，预言颗粒膜系统中存在磁有序和磁序转变现象，但未作深入讨论[8]。在2005年的物理实验上郑勇林对Fe含量和粒径对Fe/Cu颗粒膜结构和磁性的影响进行了研究，通过采用共蒸发法制备不同组分的Fe/Cu颗粒膜,将样品分两组进行退火和不退火处理。根据测量及分析,确定了不同成分的 Fe/Cu颗粒膜的相组成和晶体结构，得出了Fe/Cu?颗粒膜矫顽力在颗粒尺度从 100nm?减到35nm范围时,矫顽力连续增加,当颗粒粒径继续减少,则矫顽力急剧下降。利用此关系由自发形核理论可知,提高功率,快速蒸镀薄膜,可得到细密颗粒的Fe/Cu颗粒膜,从而降低矫顽力,减少磁滞损耗，但本文未对在周期性的颗粒膜系统的磁性进行探讨[5]。为此，本文将对在文献[6][10]的基础上建立具有周期性磁有序颗粒膜系统的理论模型，通过对理论模型的系统的能量、颗粒平均磁矩等的计算和分析来对在这种具有周期性的有序磁性颗粒膜系统中的铁磁（FM）、反铁磁（AFM）、顺磁（PM）之间的转变条件进行探讨。2?基本概念和理论计算：2.1颗粒膜材料颗粒膜(Granular films)是微颗粒嵌入薄膜中所构成的复合薄膜，是一类人工功能材料，它兼具微颗粒与薄膜双重特性。原则上，任意两种或多种组元，如在高温不相固溶，通常可采用共蒸发、共溅射的工艺获得颗粒膜，除此之外，还可应用真空镀膜法和标准平印照相制版技术、快淬等工艺方法来获得颗粒膜。从宏观的观点出发,组成颗粒膜原料的组成成分、各组成成分间的比例、工艺条件等参量的变化均对膜的特性有显著的影响，因此可以在较多自由度的情况下人为地控制复合膜的特性[9]，从而制成颗粒膜材料。从微观的观点出发,颗粒膜材料的磁性除了与颗粒本身的磁性有关外,还与颗粒的界面对磁性的影响有关。这种关系跟磁性金属在膜中所占的体积百分比非常密切,当磁性颗粒 Fe?颗粒质量分数较小,它所占的体积百分比较小即颗粒粒径较小时,以孤立颗粒的形式分布于非磁性的介质 Cu中,极小的铁颗粒在某一个临界尺寸以下,磁性颗粒处于单畴状态。当颗粒体积百分比较大即颗粒粒径较大时,磁颗粒主要以多畴状态出现。当Fe的质量分数不太高x30%时,可认为Fe颗粒为单畴的。随着Fe的体积分数减小,以致于颗粒的磁能小于热能,磁矩将不再固定在某一个易磁化轴的方向,在热能的作用下各种易磁化方向作随机取向,这种无相互作用的具有磁矩的顺磁性颗粒,其磁特性可用朗之万 Langevin?函数来描述。随着颗粒尺寸变小,比表面积相应增大,因而表面原子数增加,此时,表面效应成为影响颗粒磁性的一个重要机制[10]。2.2?磁有序????在较低温度下（TTC）,很多磁体在没有外磁场的诱导下，其磁化强度