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何晓阳
中国科学院上海冶金研究所微电子学分部 ( 上海200233)
介绍了目前薄膜晶体管 ( T FT) 结构和相关工艺 进展及低温化过程, 并
展望T FT 良好发展前景。
薄膜晶体管 ( TFT) 工艺进展 AMLCD
1 引 言 /
[ 1]
. . 1979
P G LeComber
Electron Letter
( -Si T hin Film Tr nsistor)
( Active M trix Liquid Cryst l
Displ y) , 1986 3
,
9 ( : 372 , : 240 )
-Si T FT -LCD ,
,
,
CRT ( C thode R y T ube)
TFT-LCD
,
( T FT )
2 T FT 结构的发展
TFT 3 :
( ) ; ( ) ;
b
( c)
[ 2]
1 ( c) ( c) TFT
1 ( ) TFT
:
(b) T FT
( ) / ( c) TFT
SiNx ( CVD ) -Si ( CVD ) / [ 2]
2
+
( ) / - ( )
SiNx CVD n Si CVD
/ ( ) / ( ) , A1 D1
ITO
半导体技术 1997 年4 月第2 期 1
1, TFT 1 , IT O , V ,
s s
IT O , C , C ,
IT O , ,
T FT
, TFT , T FT ,
, gs ,
IT O C
, ,
TFT M OS L
, TFT ( Semi SA - ,
[ 3]
TFT ) 3 TFT
TFT ( 5) [ 3]
, ,
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