掠角沉积纳米结构薄膜技术研究.docVIP

  掠角沉积纳米结构薄膜技术研究# 5 10  摘要：薄膜技术有着悠久的历史。随着纳米技术的发展，具有特殊纳米结构的薄膜表现出多 种独特的性质，使其在光学、能源以及新型传感器等领域都有着广泛应用潜力。作为构筑纳 米结构薄膜的重要途径，掠角沉积技术以其高效，可控等特点越来越受到研究人员的重视， 成为新的研究热点。目前对于掠角沉积技术的研究虽然已经得到了一些经验论证，但基础理 论以及工艺过程方仍然面需要得到进一步的揭示与优化。本文对掠角沉积技术的概况以及研 究现状进行了综述，并对掠角沉积技术的发展现状以及今后的研究方向进行了总结和分析。 关键词：纳米技术；掠角沉积；纳米结构薄膜 中图分类号： 15 A Review of Glancing Angle Deposition CAO Yongzhi, WU Chao, HU Zhenjiang, YU Fuli (Center for Precision Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001) Abstract: Thin film technology has a long history. With the development of nanotechnology, thin 20 25 30 35 40 film characterized by nanostructure has been revealed a variety of unique properties, leading to wide application potential in optical, energy, new sensor and other areas. Glancing angle deposition, an most significant way to build nanostructure thin film because of high efficiency and Controllable ability, is attracting researchers attention and has been a new research hotspot. Although some experience argument has been accomplished, the basic theory need to be further revealed and the process need more optimization. In this paper, the general situation and research status of the Glancing angle deposition technology are reviewed, the development was summarized and the research direction was analysed. Key words: Nanotechnolegy; Glancing angle deposition; nanostructure thin film 0 引言 薄膜技术是一种较为古老的表面处理方法，以往常用于对材料表面进行防腐蚀、抗磨损 等强化过程，提高光学性能等。随着微纳米技术的进步，对于薄膜技术的研究也有了进一步 的发展，人们不仅仅将表面改性作为薄膜技术的唯一用途，而是希望构筑更为精细的纳米结 构薄膜，因此，薄膜技术作为纳米制造的一个重要途径又重新成为了研究的热点。 在构筑纳米结构薄膜的众多方法中，掠角沉积技术（glancing angle deposition，GLAD） 以其加工效率高，工艺相对简单等诸多优势成为最有前途的纳米结构薄膜制备方法。GLAD 由倾斜沉积技术延伸发展而来。倾斜角技术已经被应用了近一个世纪，主要是利用其所制备 的多孔结构增加薄膜的双折射、各向异性等特性，以提高使用性能。GLAD 技术在倾斜角沉 积的基础上增加了旋转基体这一要素，使所构筑的纳米结构更为复杂。尤其现代 GLAD 技 术，加入了对于基体多自由度运动的实时反馈控制，同时对沉积基体进行预处理，实现了更 加丰富的纳米结构构筑过程[1-4]。 -1- 1 GLAD 技术   1.1  GLAD 理论要点 以往的研究提出了一些关于 GLAD 的理论。GLAD 过程的实现基于原子自遮蔽效应， 45 50 而原子自遮蔽效应的产生必须依赖于沉积粒子流良好的定向性。增大沉积基体与气流源间的 距离以及在沉积粒子流路径上设计障碍都有利于形成方向性高的沉积粒子流。电子束蒸发是 实现 GLAD 的最佳途径