薄膜制备技术及其性能研究.ppt

薄膜制备技术及性能研究实验 ——综合研究实验专题之一 综合研究专题实验 综合研究专题实验是物理实验中心为适应《近代物理实验》教学改革而设计的系列实验，主要是围绕一个课题，通过对这个课题的相关实验研究，激发学生的学习兴趣，提高学生的实验能力，使学生对这一领域相关的研究方法，相关的研究进展有一个较为完整的了解，并对科学研究的方法有一个直观的了解。 薄 膜 定 义 薄膜定义：按照一定需要，利用特殊的制备技术，在基体表面形成厚度为亚微米至微米级的膜层。这种二维伸展的薄膜具有特殊的成分、结构和尺寸效应而使其获得三维材料所没有的特性，同时又很节约材料，所以非常重要。 薄 膜 种 类 按用途分为⑴光学薄膜：包括反射膜、增透膜、分光膜、偏光膜、发光膜、光记忆膜等。⑵电子薄膜：包括导电膜、电阻膜、半导体膜、超导膜、介质膜、磁性膜、压电膜、热导电膜等。⑶力学薄膜：如硬质膜、固体润滑膜、耐磨耐热膜、耐磨腐蚀膜等。⑷防护薄膜：如防热膜、防蚀膜、防渗膜、防雾膜等。⑸装饰薄膜：如光亮膜、亚光膜、色泽膜等。 薄 膜 应 用 薄膜因其厚度很小，加上结构因素和表面效应，会产生许多块状材料所不具备的新性质和新功能，特别是随着电子电路的小型化，薄膜的实际体积接近零这一特点显得更加重要。薄膜工艺的发展和一些重大突破，伴随着各种新型才材料的开发和新功能的发现，蕴藏着极大的发展潜力，是许多新技术的基础。薄膜应用已扩大的很多领域，前景光明。 薄膜制备技术 1．物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD） 2．化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD） 3．氧化法（高压氧化法） 4．电镀法 5．涂敷、沉淀法 物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD） 它是在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料（靶材）气化成原子、分子或离子化为离子，直接沉积到基体表面的方法，主要包括⑴真空蒸镀法⑵溅射镀膜法⑶离子镀膜法等，还有一种⑷分子束外延生长法（MBE），是以真空蒸镀为基础的晶体生长法，在高技术中有重要应用。 化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD） 它是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体提供给基体，借助气相条件下化学反应或在基体表面上的化学反应生成要求的薄膜，主要包括⑴常压化学气相沉积⑵低压化学气相沉积（LPCVD）⑶等离子体化学气相沉积（LCVD）⑷有机化学气相沉积（MOCVD）⑸激光化学气相沉积等，在高技术中也有重要的应用。 溅射镀膜法 溅射镀膜原理图 溅射镀膜法 溅射镀膜机外观图 快速热处理炉（RTP） 外观 快速热处理炉（RTP） 面板 ?? 薄膜性能测试及研究方法 1．外观检测 2．薄膜厚度的测定 3．薄膜结合强度的测定 4．薄膜使用性能和工艺性能的测定 5．表面成分和结构的测定及研究方法 外观检测 ⑴目测法：宏观缺陷等⑵光学显微镜法 薄膜厚度的测定 用PVD或CVD法制备的薄膜，考虑到厚度很薄一般只有微米或更薄，因此需用更精密的方法来测定⑴多光速干涉法⑵椭圆偏振仪法⑶位相差显微镜⑷石英晶体振荡仪法⑸直流电阻测定法⑹涡流电流测定法⑺微量天平测定法等。实际上对于气相沉积制备的薄膜，由于厚度很小（纳米到微米级），不同的方法测得的厚度是不一样的，不同的方法物理意义几何含义也不尽相同，故对一些新材料必须注明测试方法。 椭圆偏振仪 外观 薄膜结合强度的测定 结合强度是指单位表面积的薄膜从基体上分离开所需的力。考虑到薄膜尺度较小，一般测试方法大多数还是定性或半定量的居多，对用各种气相沉积法得到的薄膜，一般有⑴压痕法⑵划痕法⑶拉伸法⑷激光剥离法等。 薄膜使用性能工艺性能的测定 性能测定包括各种力学，物理和化学性能。如⑴硬度⑵导电率⑶耐蚀性⑷透光性⑸延展性⑹耐磨性⑺光亮度⑻抗拉强度等。 四探针测电导率法 四探针法测电阻率系统 光谱仪测光吸收性能 光谱仪外观图 表面成分和结构研究方法 包括⑴表面形貌⑵显微组织分析⑶表面成分测定⑷表面原子排列结构测定⑸表面原子动态和受激态分析⑹表面电子结构分析等。作为新材料的一个主要来源之一，薄膜表面成分和结构研究是科学研究的前沿热门课题。 扫描隧道显微镜（STM） 外观图 原子力显微镜 外观 X射线衍射仪（XRD） 外观 X射线衍射仪（XRD） 测角台 实验内容 1．溅射镀膜实验 2．FTP炉用于薄膜热处理改性研究 3．四探针法测试薄膜导电率 4．光谱仪测试薄膜光吸收特性 5．原子力显微镜观察薄膜微观结构 6．X射线衍射法分析薄膜晶体结构 * * 郑州大