毕业设计说明书 单模光纤与SOI纳米线波导之间的矩形光栅耦合器.docVIP

1 引言 1．1 研究背景 当今社会与信息网络之间形成了巨大的相互作用。在过去几十年中，以电子学为基础的计算机技术和通信网络技术极大地促进了社会经济、政治、教育、文化、军事等的发展。在高度信息化来临的今天，社会的发展又对信息网络提出了新的要求：信息量十分巨大、信息传递非常快捷、信息处理十分迅速。由于电路中信号的传播和开关速度的限制，使得电子技术在应对这些问题时表现出了其自身的局限性，而由于光信号具有处理速度高、不受电磁场干扰等优点，使得光子技术却在这些方面显得游刃有余。因此光子技术必将是继电子计算机技术之后的一个更具前景的研究方向，它将在未来的信息化社会中扮演极为重要的角色。如果说20世纪是“电子时代”，那么21世纪必将是“光子时代”。 1969年，美国贝尔实验室的Miller博士首先提出了集成光学(integrated optics)的概念[1]。受到微电子集成电路技术的启迪和促进，1972年，Somekh和Yariv博士提出在同一个半导体衬底上同时集成光学器件和电子器件的构想[2]。自此之后，集成光学在理论和实运用方面都取得了长足的发展。国内有学者把光子学看成是一门与电子学平行的学科，并把光子学的发展与电子学的发展作类比，将其分为真空光子学、固体光子学和微光子学[3]。其中，光泵浦的固体激光器和气体激光器等属于真空光子学的范畴；半导体激光器属于固体光子学的范畴；集成光学则属于微光子学的范畴。集成光学是集电子学、微电子学、光学、光电子学、通讯、薄膜技术等为一体的新型学科，是当今光学和光电子学领域的发展前沿之一。它主要研究集成在一个平面衬底上的光学器件和混合光学-电子学系统的理论、技术与应用，是光学发展的必由之路和高级阶段。 与电子时代的发展目标是“集成电路”一样，光子时代的最终发展目标必将是“集成光路”。上世纪六十年代初，激光的发展为光的传输和信息的处理提供了稳定的相干光源，使通过光束加载信号进行传输和处理成为可能。但是光学系统的重要光学元件，比如透镜、棱镜、反射镜、电光调制器和探测器等均需要装备在边长达到数米的实验台上，而且还必须安置在防震底台上。这些离散的光学元件系统由于体积和重量过大、稳定性差以及光束的校准困难等原因，已不能适应光电子技术发展的需要。将光学元件形成在一个晶片衬底上，用衬底内部或表面上形成的光波导连接起来，采用类似于半导体集成电路的方法，把光学元件以薄膜形式集成在同一衬底上的集成光路，是解决原有光学系统小型化和提高整体性能问题的重要途径。这样的集成光路器件具有体积小、性能稳定可靠、效率高、功耗低，使用方便等优点[4-5]。 目前，以硅基光子学为基础的集成光路的发展已经初具规模，并在光通信及光信息处理方面显示出电子学无法比拟的优越性，比如尺寸更小，重量更轻，功耗更小，批量制备成本更低，可靠性更高等。同时由于光和物质的多种相互作用，还可在集成光路的构成中，利用诸如光电效应，声光效应，磁光效应，热光效应等多种物理效应，实现新型的功能器件[6]。下表列出了集成光路和集成电路的比较： 表1.1 集成光路 集成电路 (1)基本作用 光波导中的光传输；光与电子、晶格的相互作用 衬底表面的电子传输与控制 (2)基本元器件 光波导、半导体激光器、探测器等 晶体管、电阻、电容等 (3)元器件尺寸(厚度) 波长量级，纳米量级 数十纳米至微米 (4)元器件尺寸(长度) 数微米至数毫米，关键部分甚至纳米级 数十纳米至微米 (5)器件之间的连接 光波导，难：需要精确的耦合对准 电气布线，易：直接导体连接 (6)元器件可靠性 目前还存在问题，通常还需要检测全部元器件 通常没问题，只需要抽查 (7)元器件制作工艺 不成熟，目前仍在研发中 成熟的工艺 由于SOI这种高折射率差的系统对光场有很强的限制作用，能够使得波导的横截面尺寸大大缩减。从上个世纪八十年代开始，人们越来越重视硅基光子学的研究。各跨国公司和国科技部门纷纷加大对这一领域的资金和人力投入，并取得了一系列重大的研究成果。以Intel公司为例，该公司在2000年前后重组了基础研究的部门并订制了全新的研究方向，并把硅基光电子学确定为支撑公司未来发展的重要依托。2004年Intel首次报道了调制频率超过1GHz的硅电光调制器[7]；在激光器方面，2005年Intel首发了基于Raman效应的连续波硅激光器华[8]；同时，随着工艺技术的改进，2005年CMOS工艺生产线的线宽已经达到90 nm，其制作精度也达到了1~10 nm，将波导的尺寸降低到亚微米量级。对于进入这个尺寸范围的光子学器件，我们可以称为纳米光子学器件，国际上也形象地把这个尺寸范围的波导称为“纳米线(nanowire)”或“光子线(photonic wire)”波导。SOI纳米线波导具有对光场限制作用