痕量铅及铜半胱胺修饰金电极法同时测定.pdfVIP

痕量铅及铜半胱胺修饰金电极法同时测定.pdf

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11 1 中国公共卫生 2010 年 2 月第 26 卷第 2 期  C h in J Public H ea lth Feb 2010 V ol. 26 N o. 2 255 文章编号 : (2010) 中图分类号 : O 65731  文献标志码 : B 【检验技术 】 痕量铅及铜半胱胺修饰金电极法同时测定 1 1, 2 1 范红 ,何婧 ,顾海鹰   关键词 : 痕量铅 ;痕量铜 ;修饰金电极法 ( ) ( )   近年来 ,铅 Pb 、铜 Cu 的污染情况越来越严重 , 因此 , - NaAc缓冲溶液进行实验。 Pb、Cu 的准确分析及同时测定受到普遍关注。已经报道的测 2 2 富集电位及富集时间的选择  在所选择的缓冲介质中 , 〔1 - 2 〕 定铅、铜的方法有原子吸收及发射光谱法 、原子荧光光谱 其他实验条件不变 ,改变富集电位 , 比较不同富集电位下的循 〔3 〕 法 等 ,但这些方法多涉及到贵重仪器 , 电化学方法具有所 环伏安图。发现富集电位在 - 050 V, - 060 V, - 070 V 需仪器设备简单、灵敏度高等优点 ,常用的电极有离子选择性 时 ,峰形均不如在 - 040 V 时稳定 ,故选择 - 040 V 为富集 〔4 - 6 〕 电极、破碳电极、金属电极及其修饰电极 。本研究应用 电位。此外还发现, Pb、Cu在半胱胺修饰金电极上的氧化峰 Pb、Cu在半胱胺修饰金电极上的循环伏安行为 ,建立了一种 电流随富集时间的增长而增加。在含有 16 ×10- 7 mol/L Pb 同时测定水中痕量 Pb、Cu 的新方法。 和 52 ×10- 8 mol/L Cu 的 pH 5 0 HAc - NaAc 缓冲溶液中 , 1 材料与方法 Pb氧化峰电流与富集时间在 120~420 s 内呈良好的线性关 ( 11 仪器与试剂  CH I660B 型电化学工作站 上海辰华公 系 , Cu氧化峰电流与富集时间在 180~420 s 内呈良好的线性 ) ( ) 司 ; PHS - 3C精密 pH 计 上海雷磁仪器厂 ;三电极体系 :半 关系。选择 180 s作为富集时间 ,可达到足够的灵敏度。 胱胺修饰

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