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利用 HFCVD 简易装置制备纳米金刚石薄膜研究 方静华 项金钟 信思树 朱艳 杨海刚 吴兴惠 云南大学 材料科学与工程系 云南 昆明 650091 摘要 纳米金刚石薄膜具有金刚石薄膜和纳米材料的双重特性 其应用前景广阔 本论文通过 改装得到一套适用于 HFCVD 的简易制膜设备 制备出了纳米金刚石薄膜 并对影响薄膜生长 的压强 衬底温度 沉积时间进行了讨论 关键词 纳米金刚石薄膜 纳米材料 HFCVD 1 前言 其处理分两个步骤 第一 将灯丝制成 螺旋形 有利于减小灯丝的形变 第二 在 纳米金刚石薄膜具有金刚石与纳米结构 正式实验之前 先使灯丝在浓碳源气体中高 的双重特性 引起了国内外广大科技工作者 温加热 生成一层 WC 对灯丝表面进行保护 的极大兴趣 自20 世纪八十年代末 CVD 金刚 防止灯丝物质的蒸发 保证薄膜的纯度与质 石薄膜 热 Diamond Films Fever 以来 量 北京科技大学 郑州磨料磨具磨削研究所 2 对衬底的处理 兰州大学等多家单位都已开展了这方面的研 在基片表面用 500 800#号砂纸磨出 究工作 目前 其已广泛应用于场发射器件 轻微划痕 并使划痕呈井字形 处理后用 [1] [2] 超声波加丙酮清洗 用微米级的金刚石研 微型机电 平板显示器 等领域 以及耐磨 和减摩材料 旋转轴密封件等磨擦磨损领域 磨膏进行研磨 依次用丙酮 酒精清洗后 另外 在电极上涂覆纳米金刚石薄膜 其表 烘干即可直接作沉积衬底 现与掺硼金刚石薄膜电极非常相近 可用来 本实验中所用到的检测仪器为拉曼光谱 作电化学电极[3] 为其在电分析和电化学合成 分析仪 英国 Renishaw Plc 公司的 MK1-1000 领域中的应用开辟了新的道路 但是 与国 型显微共焦拉曼光谱仪 和扫描电镜 美国 外相比 我国起步较晚 许多技术还不成熟 PHILIPS 公司的 XL30E 型扫描电镜 本实验选用甲烷氢气 CH +H 系统 在 大致存在的问题如下 4 2 设备成本高 装置复杂 1 机械泵放气阀 生长率低 膜质量不高 大面积生 2 热偶规管 长金刚石膜较为困难 3 热阴极规管 根据 CVD 制备纳米金刚石薄膜的特点 选取热丝 CVD 方法制备纳米金刚石薄膜 虽 4 低真空阀 然热丝化学气相沉积法的生长速率低 但其 5 预室阀 设备简单 成本低廉 膜层质量好 扩大生 6 高真空阀 长面积和强化生长过程有潜力