氮化铝薄膜结构和表面粗糙度的研究Ξ.pdfVIP

第 29 卷　　第 6 期 稀有金属材料与工程 V o l. 29, N o 6 2000 年　　12 月　 RA RE M ETAL M A T ER IAL S AND EN G IN EER IN G 　D ecem ber 2000 氮化铝薄膜结构和表面粗糙度的研究 1, 2 2 2 1 许小红 　武海顺 　张富强 　金志浩 ( 1　西安交通大学　西安　710049) (2　山西师范大学　临汾　041004) 摘　要　采用直流磁控溅射的方法, 在 ( ) ( ) 薄膜 Si 111 基片上沉积A lN 100 面择优取向薄膜, 研究了溅射功率对A lN 结构及表面粗糙度的影响。结果表明, 随着溅射功率的增加, 沉积速率增大, 但薄膜结构择优取向度变差, 表面粗 糙度增大, 这说明要制备择优取向良好、表面粗糙度小的A lN 薄膜, 需选择较小的溅射功率。 关键词　氮化铝薄膜　表面粗糙度　结构 中图法分类号: 43　　　　文献标识码: 　　　　文章编号: 1002185 (2000) TB A X 　　氮化铝是一种具有六方铅锌矿结构的 族化 沉积的 薄膜结构和表面粗糙度的影响, 以探索 V A lN 合物, 属 6 mm 点群, 具有不对称中心, 是一种无机 溅射功率在整个制膜过程中的重要作用。 ( ) 非铁性压电材料。A lN 具有宽的带隙 62eV , 高的 ( 13 ) ( 6 电阻率 1 ×10 · , 高的抗击穿电压 36 ×10 cm 1　实验方法 ) ( 3 ) , 高的声传播速率 6 ×10 和低的传输损 V cm m s ( ) 耗 4 , 使它在微电子器件中有着广泛的应用 本研究采用直流磁控溅射的方法制备 薄 dB cm A lN 前景[ 1～ 3 ] 。在表声波(SAW ) 器件的应用中, 由于A lN 膜。实验中选用铝靶材的纯度为 99 995% , 直径为 60 薄膜的声速比 ZnO 和CdS 的声速大约高一倍, 因而 mm , 厚度为 5 mm 。工作气体A r 和反应气体N 2 纯度 在不减小叉指电极宽度的情况下, 就能使中心频率