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!第 期 !! 无 机 化 学 学 报 ./+0#1 2/0’
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年 月 3452’6’ 789:2; 8= 528:;253 34’?56@:A .1^1 $$%
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研究简报
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聚喹啉杂多阴离子杂化 膜的制备与光电性质
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靳素荣 柳士忠 张联盟 杜祖亮 赵卫锋
! 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室 武汉
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湖北大学化学与材料学院 武汉
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$ 河南大学固体表面实验室 开封
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关键词! 聚喹啉 三缺位九钨硅杂多阴离子 膜与 膜 光电性质
,./012)3 ,-
分类号! 8
45675 9 4597:$
! 引 言 可见分光光度计’荧光光谱采用美国KFRU V! 荧
光光谱仪%激发光波长 ’# 25 ’原子力显微镜采用
有机 无机杂化 膜因其在分子设计与合成方
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日本精工 ( ) 原子力显微镜’
K;6W) KF+%## -123596X
面有高度可塑性 灵活性及多样性 易于制成各种功
$ % 膜与 膜的制备是在河南大学自制的拉膜机上进
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能材料 在微分子学 信息科学 生物学 材料学等高
% $ $ $ 行 所用试剂均为分析纯 实验用水为石英亚沸蒸馏
技术领域有重要的应用前景 近年来引起研究者的 ! %
% 器制得的三次蒸馏水 聚 二氢 三甲基喹
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关注 缺位杂多化合物
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