三氟化氮萃取精馏工艺研究.pdfVIP

第 27卷第 2 期 低 温 与 特 气 Vo l27, No2 2009年 4 月 Low Temp eratu re and Sp ecialty Gases Ap r, 2009 　 ·工艺与设备 · 三氟化氮萃取精馏工艺研究① 杜伟华 (中核红华特种气体股份有限公司 , 四川 成都 温江 柳林路 96号 　611130) 摘要 : 高纯度的三氟化氮是微电子工业中一种优 良的等离子蚀刻气体 , 是半导体与 LCD 产业制造过程中必备的 材料 。针对 N F 气体中 CF 杂质采用常规方法难以分离的特点 , 提出一种新的纯化工艺 ———低温萃取精馏纯化 3 4 法 , 对低温萃取精馏生产高纯 N F 过程的工艺流程进行了研究 , 并采用 A sp enP lu s在广泛操作条件下对精馏过程 3 进行了精馏模拟计算 。通过工艺试验 , 找到适合于本物系的精馏运行参数 , 优化了生产流程 , 稳定了工艺系统 运行 , 三氟化氮纯度达到了 99999%以上 , 产品中的 CF 杂质含量低于 1 ×10 - 6 ( V / V) 。 4 关键词 : 三氟化氮 ; 纯化工艺 ; 萃取精馏 ; 纯度 中图分类号 : TQ 1243 文献标识码 : A 文章编号 :(2009) 0200 14 04 Study on NF Extractive D istilla tion Process 3 DU W eihua (Ch ina N uclear Honghua Sp ecialty Ga ses Co. , L td. , Chengdu 611130, Ch ina) A b stract: H igh pu rity N F3 is a k ind of excellent p lasm a etch ing ga s u sed in m icroelectron ic s indu stry, and it is a p rerequ i site m aterial in sem iconductor LCD indu stry. B ecau se CF4 is difficu lt to be sep arated from N F3 by general m ethod, the p ap er p rovided a new pu rification p rocess—low temp erature extractive distillation p urification to solve the p rob lem. In the p ap er, the distillation p rocess wa s studied