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透明导电薄膜在不同衬底上的性能对比研究 1, 2 2 3 3 3 3 陆 　峰 , 徐成海 , 闻立时 , 曹洪涛 , 裴志亮 , 孙 　超 ( 1. 沈阳建筑大学交通与机械工程学院 , 辽宁 　沈阳　110 168; 2. 东北大学机械工程与自动化学院 , 辽宁 　沈阳　110004; 3. 中国科学院金属研究所 , 辽宁 　沈阳　1100 15) [摘 　要 ] 　为了对比研究不同透明衬底上 ZnO : A l ( ZAO ) 薄膜的性能 ,采用直流反应溅射法制 备薄膜 ,并对其作 ED S、XRD 和电学测试分析 。结果表明:所制备的 ZAO 薄膜具有典型的 ZnO 晶体 结构 ;沉积在玻璃基片上的 ZAO 薄膜 , A l, O 含量高于沉积在透明聚酯塑料基片上的 ,而 Zn 的含量则 相反 ;在两种衬底上获得的 ZAO 薄膜电阻率分别为 4. 5 ×10 - 4 Ω ·cm 和 9. 73 ×10 - 4 Ω ·cm ,可见光 透射率分别达到 87. 7% 和 81. 5% 。由此可见 :用直流反应磁控溅射法在不同衬底上都能获得可见 光透射率达到 80%以上的 ZAO 薄膜 ;相比而言 ,在玻璃衬底上获得的 ZAO 薄膜电阻率低 ,而在透明 聚酯塑料上沉积的 ZAO 薄膜透射性好 。 [关键词 ] 　ZAO 薄膜 ; 衬底 ; 直流磁控溅射 ; 性能 ; XRD 衍射分析 ; 电阻率 ; 透射率 [中图分类号 ] 　O484 . 4 [文献标识码 ] 　A [文章编号 ] 　100 1 - 1560 (2005) 07 - 0005 - 03 0　引　言 备上制备的。工作靶采用 Zn /A l合金矩形平面靶 , ( ) A l的相对含量在 0. 5% ～3. 0% 质量分数 ;真空 ( ) 透明导电 ZnO : A l ZAO 薄膜由于其独特的光 室内本底真空度为 2 ×10 - 3 Pa;靶基距为 2 ～20 cm 电性能 ,即接近金属的导电性 、可见光区的高透射 率 、对红外波段的高反射率等 ,在光电显示设备 、太 任意调节 ,玻璃和透明聚酯塑料基片平行于靶表面 阳能电池 、电磁屏蔽及热镜等领域中有广阔的应用 放置 ;在成膜过程中 , A r和 O2 作为溅射气体和反 前景 [ 1 ] 。同时 , ZAO 薄膜具有原材料丰富、制备简 应气体按比例通入真空室 ,使真空室内的工作压强 单 、成本低廉 、化学稳定性好 、易于实现工业化大面 保持恒定 ,约为 1 Pa;在试样制备前 ,基片经过超声 积镀膜等优点 ,成了近年来透明导电薄膜产品体系 波清洗和热风烘干处理 ;真空室内保持为室温 ,在 中的研究热点及新一代透明导电薄膜的代名词 。 溅射成膜前 ,应先调节好 A r和 O2 的比例 。 制备 ZAO 薄膜的技术很多 ,主要有 :溶胶 - 凝 用电阻率和可见光区的透射率来表征薄膜的 胶法 [ 2 ] 、脉冲激光法 [ 3 ] 、等离子体沉积法 [ 4 ] 、化学 光 、电性能 。电阻率用范德堡法测量 ,可见光区的 气相沉积法 [ 5 ] 以及射频磁控溅射和反应磁控溅射 透射率是在 DMR 22 自动记录光谱光度计测试的 , 法 [ 6～11 ] 等 。本研究用的 ZAO 薄膜是采用直流反应 仪器的不确定度为 ±1% , ZAO 薄膜的显微结构通 磁