退火工艺对BNT铁电薄膜光响应性能的影响.docVIP

  退火工艺对 BNT 铁电薄膜光响应性能的 影响# 李静，王金斌，钟向丽，李波，郭道友，张克栋，王芳** 5 10 15 20 25 30 35 40 （湘潭大学材料与光电物理学院，湖南 湘潭 411105） 摘要：用溶胶-凝胶法在 YSZ/Si 衬底上制备 Bi3.15Nd0.85Ti3O12 (BNT)铁电薄膜，研究了退火 气氛和退火温度对 BNT 薄膜的光响应性能的影响。对不同退火气氛和退火温度下的 BNT 薄 膜进行微观结构和光响应性能表征，研究结果表明：随着退火气氛中氧含量的降低，光响应 增大，BNT 薄膜中氧空位起到了为光生载流子传输提供通道的作用；随着退火温度的降低， 光开启电压和饱和光电导增大，BNT 薄膜中高密度的晶界虽然阻碍了光生载流子的迁移， 却有利于使光生载流子在晶界处及时分开。 关键词：退火气氛；退火温度；BNT 铁电薄膜；光响应 中图分类号：O484.4 Effects of the annealing process on the photoresponse of BNT ferroelectric thin films LI Jing, WANG Jinbin, ZHONG Xiangli, LI Bo, GUO Daoyou, ZHANG Kedong, WANG Fang (Faculty of Materials, Optoelectronics and Physics, Xiangtan University, HuNan XiangTan 411105) Abstract: In this paper, the Bi3.15Nd0.85Ti3O12 (BNT) ferroelectric thin film was fabricated on the YSZ/Si substrate using a sol-gel process, and the effect of both annealing atmosphere and annealing temperature on the photoresponse of BNT thin films was investigated. The microstructure and photoresponse of the BNT film were characterized. The results suggest that the photoresponse increases with the decreasing oxygen concentration in the atmosphere, which indicates that oxygen vacancies in BNT films provide a path for photogenerated carriers transportation. The threshold voltage of photoconduction, as well as the saturation photoconduction increase with the decreasing annealing temperature. Though grain boundaries hinder the migration of carriers, they promote the separation of photogenerated carriers timely. Keywords: annealing atmosphere; annealing temperature; BNT ferroelectric films; photoresponse 0 引言 近年来，铁电薄膜的光伏效应在光探测[1]、非破坏性光读[2]、光伏器件[3-5]等方面体现出 的应用前景，引发了研究者的兴趣。然而到目前为止，铁电薄膜的光伏机理并没有完全弄清 楚，人们对影响铁电薄膜光伏效应的可能因素做了大量的研究工作，包括入射光强度[6]和波 长[7]、界面肖特基势垒[8]、极化大小与方向[9]、薄膜厚度[10]、电极材料[11,12]等。缺陷对载流 子的输运特性会产生显著影响，然而将缺陷作为影响铁电薄膜光伏效应的一种因素，人们研 究得却很少。在铁电薄膜的制备过程中，不可避免地会引入很多缺陷，本文制备不同退火气 氛和退火温度下的 Bi3.15Nd0.85Ti3O12 (BNT)铁电薄膜，研究了退火工艺对 BNT 薄膜的光响应 性能的影响。 本文的研究建立在一种面内电极结构之上。这种结构不同于传统三明治式结构[8]，在该 基金项目：中国国家自然科学基金 1103