PLD高温光纤传感器工艺研究毕业设计.doc

1绪论 1.1 课题的背景、目的及意义 在过去的几十年中，蓝宝石高温光纤传感器的使用量迅速增长并广泛应用于工业和科研中。光纤黑体腔探头是热辐射测量中的辐射敏感元件，又是高温光纤传感器中最重要的部件之一。本文介绍了用脉冲激光沉积（PLD）技术制备高温光纤传感器的传感头薄膜，制备出的传感头薄膜耐高温、灵敏度高，有良好的使用效果和使用寿命。 随着高功率脉冲激光技术和镀膜技术的发展，脉冲激光沉积镀膜技术应用越来越广泛，近年来使用范围广，是一种很有发展前景的制膜技术[1]。而激光脉冲沉积镀膜有独特的物理化学性能的特点和优势，表现在以下方面：激光能量的高度集中，能够沉积高质量薄膜，适用范围广；脉冲激光沉积镀膜技术系统简单、易于控制；精度高、灵敏度高、响应快、效率高、灵活性大。选择脉冲激光沉积镀膜技术来制备高温光纤传感器的传感头，能够得到高品质的多层黑体腔薄膜。本课题的研究目的是利用脉冲激光沉积镀膜技术的方法，在光纤传感器的传感头上制成薄膜。用脉冲激光沉积镀膜技术来制备高温光纤传感器的传感头具有良好的应用前景，具有一定的应用价值和重要的意义[2-5]。 1.2 国内外研究现状及发展前景 七十年代以来光波导技术的发展极大地促进了辐射测温技术的发展，同时促进了一种新型检测仪器的出现，即光纤传感器。自20世纪80年代以来，高温光纤传感器在发达国家得到迅速的发展，各种光纤传感器以其独特的技术优势广泛应用于工业、国防、航空航天、交通运输和日常生活等各个领域[6]。1987年，Dijkkamp等人第一次成功地用高能准分子激光制备出高质量的高温超导薄膜[7]，使这一技术获得了迅速发展，成为被广泛应用和研究的制膜技术。 1962年，布里奇与克罗斯利用红宝石激光器，汽化与激发固体表面的原子。1965年，史密斯与特纳利用红宝石激光器沉积薄膜，视为脉冲激光沉积（PLD）技术发展的源头。 1965年，Smith等第一次尝试用激光制备了光学薄膜，但经分析发现，这种方法类似于电子束打靶蒸发镀膜，未显示出很大的优势，所以一直不为人们所重视。直到1987年美国Bell实验室首次成功地利用短波长脉冲准分子激光制备了高质量的钇钡铜氧(YBCO)超导薄膜[8]，脉冲激光沉积技术才成为一种重要的制膜技术，受到国际上广大科研工作者的高度重视。从那时候起，PLD技术广泛应用于在铁电、半导体、金刚石等，这是用脉冲激光沉积技术来制备高温光纤传感器传感头的基础[9]。 自1987年成功制作高温的Tc超导膜开始[10]，用作膜制造技术的脉冲激光沉积获得普遍赞誉，并吸引了广泛的注意。不久以后，有人用脉冲激光沉积来制作具备外延特性的晶体薄膜。从那时候起，镀膜技术应用于高温光纤传感器越来越广泛，薄膜制造在各种应用上可以说已迈入新纪元，用脉冲激光沉积的方法制备高温光纤传感器将会越来越广泛地应用。 1.3 课题研究的主要内容 本文研究的主要内容是用脉冲激光沉积技术制备高温光纤传感器的传感头薄膜。为了较好的传感头薄膜，在PLD制备蓝宝石高温光纤传感器的传感头薄膜过程中，本论文对PLD制备蓝宝石高温光纤传感器研究工艺进行了赋予创新的优化调整。 本文介绍了用脉冲激光沉积技术制备蓝宝石高温光纤传感器的传感头薄膜的新方法，论文共分五章，根据论文各章节的顺序，具体研究内容安排如下： 第1章介绍课题研究的背景、目的和意义，综述蓝宝石高温光纤传感器、脉冲激光沉积技术的国内外发展现状，指出用脉冲激光沉积技术制备蓝宝石高温光纤传感器的传感头薄膜在工业、科研上的重要意义，确定了论文研究的方向。 第2章介绍了蓝宝石高温光纤传感器的基本工作原理及理论研究，其中对黑体辐射进行更为详细深入的分析介绍，为本课题研究PLD制备黑体腔感温材料奠定了理论基础。同时，介绍了传感器动态测量标定的方法，又为进一步改进PLD加工工艺提供了依据。 第3章通过几种镀膜方案的比较，突出了我们所研究的脉冲激光沉积镀膜的优点。接着介绍脉冲激光沉积镀膜技术及系统、脉冲激光沉积技术的基本原理、以及用脉冲激光沉积镀膜技术制备薄膜的过程，并介绍脉冲激光光源及脉冲激光沉积技术的特点。 第4章具体介绍了用脉冲激光沉积技术制备蓝宝石高温光纤传感器的传感头薄膜，对传感头的热辐射特性进行分析研究，给出光纤镀膜的方案。在制备传感头薄膜时，分别对感温材料的金属铱μm左右的薄膜；定向性强、薄膜分辩率高，能够实现微区沉积；生长过程中可原位引入多种气体，引入活性或惰性及混合气体对提高薄膜质量有重要意义；易制多层膜和异质膜，特别是多元氧化物的异质结；沉积需要的温度较低等等。而且能够在真空条件下，用PLD技术能够制备出高质量的薄膜。脉冲激光沉积系统一般由脉冲激光器、光路系统（会聚透镜、激光窗口等）、沉积系统（真空室、真空泵、靶材、基片等）