高压直流连续波光阴极注入器.pdfVIP

维普资讯 第44卷第 3期 兰州大学学报 (自然科 学版) V0ll_44No．3 2008年 6月 JournalofLanzhouUniversity(NaturalSciences) Jun．2008 文章编号：0455—2059(2008)03—0141—04 高压直流连续波光阴极注入器 杨振萍 ，边清泉 f1．西南科技大学 理学院，四川 绵阳 621010； 2．绵阳师范学院化学系，四JfI绵阳 621000) 摘 要：根据高平均功率自由电子激光对电子束的要求，提出了直流高压连续波光阴极注入器，并进行 了相应的束流动力学过程研究．采用特殊结构设计的静 电加速腔，其加速梯度可以达到10MV／m·当 静 电场的加速距离10cm，漂移空间50cm时，脉冲宽度为10ps，阴极表面的柬斑半径为2mm，束团电 荷为0．5nC的电子束，输 出束流归一化发射度为5mmm．rad；用PARMELA 序进行 了粒子动力学模 拟，注入器输出束流归一化发射度为5．8mmm·rad． 关键词：光阴极注入器；静电加速器；高平均功率 自由电子激光 中图分类号：0434．3 文献标识码：A Continuous—wavephotoinjectorbasedDCgun YANGZhen—ping，BIAN Qing—quan2 (1_CollegeofScience，South—WestUniversityofScienceandTechnology,Mianyang621021，Sichuan，China； 2．DepartmentofChemistry,MianyangNormalUniversity，Mianyang621000，Sichuan，China) Abstract：Accordingtorequestofelectronbeam onthehigh—average—powerFEL，acontinuous—wavepho— toinjectorbasedDC gunwasputforward．andthecorrespondingdynamicprocessofthebeam flow waS studied．By applying a novelstructureofelectrostaticacceleration，the acceleration gradscan reach 10 MV／m．Whentheaccelerationspaceofelectrostaticfieldis10am，excursionspaceis50am，andimpulse width is10ps，andradiusofbind spoton thecathodesurfaceis2mm ，and thechargeofbind groupis 0．5nC，normalizedbeam em ittanceis5mm m·rad；theparticledynamicsimulationisalsostudiedbyusing PARMELAprocess，thenormalizedemittanceofphotoinjetorexportingbeam is5．8mmm·rad． Keywords：photoinjetor；electrostaticaccelerator；high—average-powerFEL 高质量 、高平均功率电子束是高平均功率 自 速场高，特别有利于加速强流束，但常温腔壁耗功 由电子激光研究中非常关键的技术_lJ’它不仅要 率大，很难工作于连续波，如脉冲运行的CAEP(2~ 求 电子束的品质好(流强高、发射度小、能散低等)， 1／2)常温腔光阴极注入器[ ]．当阴极表面附近 而且要求电子束的平均功率高．一台输出功率为1 的加速场强为37MV／m时，需要 1．5MW 的微波 kW