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第 卷 第 期 光学 精密工程
17 6
Vol.17 No.6
O ticsandPrecisionEnineerin
年 月 p g g
2009 6 Jun.2009
文章编号 ( )
1004924X200906129307
Overlatin 工艺过程的变网格数值模拟
p g
朱学林,王 翔,褚家如
(中国科学技术大学 光学精密机械与精密仪器系,安徽 合肥 230026)
摘要:考察了overlatin 工艺中不同线距、线宽条件下的电沉积规律。利用数值模拟方法对图形结构轮廓和电沉积速
p g
度之间的相互影响进行了分析,同时采用变网格方法来适应电沉积过程中结构轮廓的不断变化。数值模拟结果表明:当
线距/线宽较大( )时,相邻图形的电沉积速度受到的影响很小,图形的横向和纵向的电沉积速度逐渐趋于一致;而当
>12
线距/线宽较小( )时,相邻电沉积图形之间相互影响显著,线距/线宽越小,纵向电沉积速度和横向电沉积速度之比越
<6
大,因此相邻电沉积图形中间区域可能产生空洞,从而出现电镀缺陷的情形。对于上述工艺缺陷,可以通过增加辅助导
电层进行消除,实验结果表明效果良好。
关 键 词: ; ;变网格;模具
overlatin UVLIGA
p g
中图分类号: : 文献标识码:
TN405TN305 A
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