热处理温度对静电自组装PDDASiO2光学薄膜的影响.pdfVIP

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2017-09-13 发布于重庆
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热处理温度对静电自组装PDDASiO2光学薄膜的影响.pdf

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27 1 武汉理工大学学报 Vol. 27 No. 1 2005 1 JOURNAL OF WUHAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY Jan. 2005 PDDA/ SiO 2 1 2 1 1 1 许丕池 , 余海湖 , 何方方 , 卢忠远 ,康明 ( 1., 621010; 2., 430070) : 以正硅酸乙酯(Ethyl Silicate, TEOS)为原料, 乙醇为溶剂, N O 为催化剂, 制备了胶粒带负电荷的 SiO 3 2 2 溶胶在低折射率( 1.45) 的玻璃片上用静电自组装( Electrostatic Selfassembly Multiplayer, ESAM) 法制备了带正电荷的聚电解质聚二烯丙二甲氯化铵PDDA 与SiO 的有机/ 无机复合层状薄膜然后对其进行热处理, 研究了不同温 2 度热处理对薄膜结构组成折射率机械强度激光损伤阈值以及光学性能的影响得到了经520 热处理后折射率为 2 1.27激光损伤阈值为68 J/cm 520 nm 处的透光率为99.0%抗机械损伤强度大的SiO 光学增透薄膜但最大的透光 2 率是400 热处理后520 nm 处的透光率为99. 2% : SiO ; 静电自组装; 热处理; 增透膜 2 : O 647 : A :2005 Heattreatment Effect n PDDA/ SiO Optical Thin Film 2 Prepared via Electr static Selfassembly Multilayer Meth d 1 2 1 1 1 X U Pichi , Y UH aihu , H E Fangf ang , L U Zhongyuan , K A N G M ing ( 1. School of Materials Science and Engineering, Southwest University of Science and Technology, Mianyang 621010,China;