SrTiO 薄膜材料的高分辨率 X 射线衍射分析研究.pdfVIP

姬 洪 等：SrTiO3 薄膜材料的高分辨率X 射线衍射分析研究 3311 SrTiO3 薄膜材料的高分辨率X 射线衍射分析研究 ∗ 姬 洪，左长明，何士明，熊 杰，李言荣 （电子科技大学微电子与固体电子学院，四川 成都 610054 ） 摘 要：本文应用高分辨 X 射线衍射 （HRXRD+ 较好的c 轴取向的显微结构特征。由于外延层很薄， TAXRD ）技术对外延生长的 SrTiO3 膜进行了分析， 被照射的区域小，所以产生的衍射强度很低。 获得了有关该薄膜的晶体取向、衬底的结构特性以及 弛豫态的点阵常数等信息，对今后改进SrTiO3 系列样 品生长工艺有重要的意义。 关键字：高分辨X 射线衍射；外延生长；弛豫态的点 阵常数 中图分类号：TN304.2 1 文献标识码：A 文章编号：1001-9731 （2004 ）增刊-3311-03 1 实 验 图1 1# 样品高角衍射图 实验所使用的样品由本校电子薄膜与集成器件 Fig 1 2Theta-Omega scan for 1# sample 重点实验室采用普通的激光沉积(PLD)技术生长。衬 从图 1 中可看出膜峰形不对称。为了提高测量精 底样品为(001)取向的LaAlO3(尺寸为 10mm×10mm)。 度，为此用高分辨X 射线衍射 （仅采用单色器，常称 沉积SrTiO3 时的衬底温度保持在750~760℃之间。为 为双晶衍射技术，英文缩写 HRXRD ）记录 SrTiO3 了深入地理解缓冲层（buffer ）对SrTiO3 膜的生长影 （002 ）及 LaAlO3 （002 ）衍射峰的摆动曲线扫描。 响，本实验分析了无缓冲层的 1#样品和以 SrTiO3 作 如图2 所示，左边的 SrTiO3 （002 ）衍射峰形已明显 为缓冲层的2#样品。 不对称，分析认为：此现象是由于晶面间距的非均匀 选用 Bede D 1 高分辨四圆X 射线衍射仪收集衍 畸变致使衍射线发生角位移造成的。点阵畸变问题在 射数据。仪器校准、样品调整及实验数据的收集均在 实际样品中是经常存在的。观察发现右边的 LaAlO3 计算机的控制下进行。工作条件为：40kV×40mA， （002 ）峰明显分叉，说明衬底晶体内已出现应力和 CuKα 辐射，多层膜高反镜，并根据具体实验要求配 小角晶界（亚晶界）。 置狭缝、高分辨率光束调节器 （采用多次反射的槽型 图3 是在HRXRD 基础上使用分析晶体（称为X 晶体构成的单色器）和分析晶体。 射线三晶衍射，英文缩写TAXRD ）后得到的LaAlO3 根据对SrTiO3 薄膜结构的不同表征需要，已对样 衬底（002 ）衍射峰的摇摆曲线，我们发现，由于测 品进行了ω/2θ对称扫描、摇摆曲线（ω扫描）、Phi