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DOI 10.3724SP.J.1096.2010.00000
光催化氧化 离子色谱法测定液晶材料中的氟含量
TiO2 -
*
张红漫 陈敬文
( , )
南京工业大学理学院 南京 210009
。
摘 要 建立了 光催化氧化 离子色谱法测定液晶材料中氟含量的方法 利用 光催化氧化技术
TiO2 - TiO2
-
, , 。 ,
作为预处理手段对含氟液晶化合物进行有机破坏 使碳氟键断裂 生成的 用离子色谱法测定 结果表明
F
/ , , 。 -
TiO 催化剂用量为 0.1 L时 可达到最佳的光催化降解效果 最佳降解时间为 50min F 峰面积与其浓
2 g
/ , /。
度在 范围内呈良好的线性关系 检出限为 测得 种液晶材料的氟含量分别为
0.05~10m L 0.021m L 3 7.
g g
, /, , ( )
及 不同浓度的加标回收率为 相对标准偏差 在
618.1 28.4mgg 86.0%~118.0% RSDn=5 3.2%~5.1%
。 , 。
之间 本方法不仅适用于有机氟体系 同时也为需经有机破坏后进行测定的有机化合物体系提供新方法
; ; ; ;
关键词 二氧化钛光催化氧化 预处理 液晶 离子色谱 氟
引 言
1
[]
1
, , 。
碳氟键的极性很强 其键能是自然界最大的 因此含氟有机化合物的稳定性很高 测定这类化合
、 ,
物中的氟含量需要经过如氧瓶燃烧法 干式灰化法及高温热解法等有机破坏的预处理过程 使碳氟键断
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