电感耦合等离子体质谱法测定高纯氧化钽中28种痕量杂质元素.pdfVIP

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维普资讯 第 27卷第 3期 分析试验室 V01.27.N0.3 2008年 3月 ChineseJournalofAnalysisLaboratory 20D8—3 电感耦合等离子体质谱法 测定高纯氧化钽中28种痕量杂质元素 郭 鹏 (株洲硬质合金集团有限公司分测计量中心,株洲 412000) 摘 要:建立了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定高纯氧化钽 中28种 痕量杂质元素的方法。讨论了质谱干扰及接 口效应,采用标准加入法消除基体 效应。各元素的方法检出限为0,00l~0.1ktg/g,回收率为90%~ll5%,方法适 用于纯度为99.999%的高纯氧化钽 中痕量杂质元素的测定。 关键词:ICP—MS;氧化钽;痕量杂质 中图分类号:0657.6 文献标识码:A 文章编号:1000-0720(2008)03—109.04 高纯氧化钽既可用作光学玻璃的改性剂以制 子体质谱(ICP-MS)在痕量分析领域被认为是一种 作高折射率的透镜,还用来合成钽酸锂用于声光、 非常理想的分析方法,该方法具有质谱图简单, 电光、超声器件的生产。近年来市场对高纯氧化 检出限低、动态线性范围宽、多元素快速分析的 钽的需求逐年递增,对其纯度要求也越来越高。 特点Hj,已广泛应用于半导体、环境、冶金等领 为了增强产品的市场竞争力,生产企业纷纷加大 域。本文提出的ICP-MS法测定高纯氧化钽 中28 研发投入,引进设备,改进工艺以提高产品的纯 种痕量杂质元素的分析方法,测定下限低,分析 度。与之相适应,为了准确判定氧化钽产品的纯 元素多,准确度高,精密度 良好,可用于99.999% 度级别,需研究建立99.999%以上的高纯氧化钽 的高纯氧化钽样品的分析。 的分析方法。目前,文献中报道的高纯氧化钽的 1 实验部分 分析方法,有 电弧原子发射光谱法¨、ICP- 1.1 仪器及工作参数 OES_2。j、 ICP-MS等,但 由于分析下限达不到要求, Agilent7500a电感耦合等离子体质谱仪 (Agi— 或者分析元素不够充分,无法满足99.999%高纯 lent,USA),耐氢氟酸进样系统,屏蔽炬。工作参 氧化钽的分析要求。 数见表 1。 从20世纪 80年代发展起来的电感耦合等离 表 1 仪器工作参数 Tab.1 OperationalparametersofICP-MS 工作 功率 进样深度 等离子气流量 辅助气流量 载气流量 补偿气流量 采样锥孔径 截取锥孔径 积分时间 测量 重复 参数 /W /mm /(Unfin) /(Unfin) /(IJmin) I(Unfin) /mm /mm /s 点数 次数 热焰 1200 9.8 0.8 0.8 0.19 冷焰 880 18 0.8 0I8 0.95 CEMMARS5EXPRESS微波消解系统 (CEM, USA)。 USA)。Milli—Q Element超 纯 水 系 统 (Millipore, 表 1中的功率、进样深度、载气流量、补偿气 收稿 日期:2007.07.25:修订 日期:2OO7.09-10 作者简介:郭 鹏 (1965一),男,高级工程师;E-mail:guopengzcc@163

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