单晶硅各向异性腐蚀的微观动态模拟.pdfVIP

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!!# 器件与技术 !!# $%’(% ) *%(+,-.-/0 单晶硅各向异性腐蚀的微观动态模拟 $ $ % % % 姚 娉 ,闫卫平 ,马灵芝 ,杜立群 ,郭吉洪 (大连理工大学 电子与信息工程学院,辽宁 大连 ; $ $$’(%) %大连理工大学微系统研究中心,辽宁 大连 $$’(%* ) 摘要:根据单晶硅各向异性腐蚀的特点,以晶格内部原子键密度为主要因素,温度、腐蚀液浓 度等环境因素为校正因子,建立了一个新颖的硅各向异性腐蚀的计算机模拟模型。在+,--开发 环境下利用./0123 技术,实现了硅各向异性腐蚀过程的三维微观动态模拟,为深刻理解硅的 各向异性腐蚀过程提供了直观的界面。 关键词:各向异性腐蚀;!!# 加工工艺;计算机模拟;./0123 三维技术 中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( ) @A!% 2 %’ %?#’’ !B ?!C#?# !#$%’%(#) *)+#, -#)’% ./01#) 2#1340#% %5 6’/$044#7 2#4#)% % % ! ! ! D2E A04F ,D2G H=0?904F ,)2 /04F?I-0 ,JK /0?L.4 ,MKE N0?-64F ( , , ; %!#$$%% #’ ($)*!+,- .,’ #!(,/,!0+$/+, 1,/2%34 /*5 #’ 6%)7,#$#5 0+$/+, %%!( 7/,+ !!67% 8%4%+3)7 %,*%3 #’ 9/)3#:454*%, ,0+$/+, 1,/2%34 /*5 #’ 6%)7,#$#5 ,0+$/+, %%!# ,7/,+ ) !8$’0) :2 46O= :69.7=8 50.37064 6P= -35 Q==4 Q.07 R68 500:64 3405678690: =7:-04F 986? :=55S T35=P 64 7-= 3405678690: =7:-04F :-383:7=80570: 6R 500:64 ,7-05 6P= P=9=4P5 304; 64 7-= Q64P5 P=4507; 6R 044=8 3765 U07- 8=59=:7 76 =4O0864=47 R3:7685 5.:- 35 7=9=837.8= ,:64:=4783? 7064 6R 7-= =7:-347S H07- V1WW 34P E9=4M/ ,07 -35 3::6905-=P 7-= 0:86 P;430: 50.37064 6R 500:64 3405678690: =7:-04F 34P 986O0P=P 8=5=38:-=85 U07- 3 O0O0P 047=8R3:= 76 7-= =7:-04F 986? :=55S 97/ :%’;$ :3405678690: =7:-04F ;)*)+ 34.R3:7.804F 7=:-466F; ;:69.7=8 50.37064 ;E9=4M/ 在硅的各向异性腐蚀中

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