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行政院國家科學委員會專題研究計畫 成果報告
成長以矽為基板的大尺寸、高品質氮化鎵薄膜及其高亮度、
長效型照明元件的研製
計畫類別:個別型計畫
計畫編號:NSC92-2215-E-007-024-
執行期間:92年08月01日至93年07月31日
執行單位:國立清華大學材料科學工程學系(所)
計畫主持人:周立人
報告類型:精簡報告
處理方式:本計畫可公開查詢
中 華 民 93年11月2日 國
行政院國家科學委員會補助專題研究計畫成果報告
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成長以矽為基板的大尺寸、高品質氮化鎵薄膜及其高亮度、長效照明元件的研製
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計畫類別:*個別型計畫
計畫編號:NSC 92-2215-E-007-024
執行期間:92 年8 月1 日至93 年7 月31 日
計畫主持人:周立人
共同主持人:
計畫參與人員:謝進華, 柯孟綜, 賴明偉
執行單位:清華大學材料工程系
中華民國93 年7 月25 日
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成長以矽為基板的大尺寸、高品質氮化鎵薄膜及其高亮度、長效照明元件的研製
“Growth of high quality GaN thin film and fabrication of ultrahigh luminescent, longevity devices”
計畫編號:NSC 92-2215-E-007-024
執行期間:92 年8 月1 日 至93 年7 月31 日
主持人:周立人 清華大學材料工程系教授
一、中文摘要 二、Introduction
利用電漿輔助分子束磊晶 (plasma Recently, the remarkable progress of growth
enhanced molecular beam epitaxy, PEMBE)來成 technique, GaN has shown great potential for
長擴散抑制層(diffusion inhibition layer, DIL) , using in luminous devices, ultraviolet detectors
並由高分辨電子顯微鏡(high resolution and high-frequency electronic devices. However,
transmission electron microscopy, HRTEM)來鑑 the lack of a suitable substrate which is lattice
定分析。由資料顯示出擴散抑制層不僅可以減 matched and thermally compatible with GaN has
緩矽的內擴散(inter-diffusion)問題,並可以促 still challenged the researcher to grow high
進在(111)晶面的矽基材上成長出高品質,大尺
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