薄膜材料与技术 05级 第3章 课件.pdfVIP

Thin Film Materials Technologies 薄膜材料与技术 Thin Film Materials Technologies 武涛 副教授 2008年 秋季学期 西安理工大学 薄膜材料与技术 Xian University of Technology -1- 材料科学与工程学院 2008© Thin Film Materials Technologies 3 薄膜沉积的物理方法 ⎧ 蒸发（Evaporation ） ⎧ 薄膜 ⎪物理气相沉积技术 (PVD) ⎪ Sputtering ⎪ ⎨溅射（ ） 沉积 ⎪Physical Vapor Deposition ⎪ PVD IBAD IBD 离化 （离子镀、 、 等） ⎪ ⎩ 的 ⎨ (MBE Molecular Beam Epitaxy) 分子束外延 ， 物理 ⎪⎪外延技术 ⎧⎪ (LPE Liquid Phase Epitaxy) 方法 ⎪ Epitaxy ⎨液相外延 ， ⎪ (HWE Hot Wall Epitaxy) ⎪ 热壁外延 ， ⎩ ⎩ 注意：其中除了LPE技术外，都可划入广义的PVD技术范畴！ 因此本章重点学习 蒸发、溅射、离子镀 三类基本PVD方法！ PVD 的概念：在真空度较高的环境下，通过加热或高能粒子轰击的方法使源材料逸出沉积物质 粒子（可以是原子、分子或离子），这些粒子在基片上沉积形成薄膜的技术。 其技术关键在于：如何将源材料转变为气相粒子（而非CVD的化学反应）！ ⎧ 产生 → 从源材料发射粒子（气相原子、分子、离子） ⎪ 气相物质的 输运 → 激发粒子输运到基片 PVD 的三个关键过程： ⎨ ⎪ 沉积 → 气相粒子在基片上成膜 （凝结、形核、长大） ⎩ 1 ⎧、真空蒸发沉积技术 ⎪ 2、溅射沉积技术 ⎪ PVD 的工程分类： 基于气相粒子发射方式不同而分！ ⎨ 3、离子镀、离子束沉积和离子束辅助沉积