等离子刻蚀与去PSG标准作业指导书.docVIP

目录 1. 目的 2 2. 原理 2 3. 适用范围 2 4. 职责 3 5．操作流程 3 6. 注意事项 5 一、目的 1. 等离子体刻蚀去除硅片四周边缘的N型层，消除硅太阳能电池短路； 2. PSG去除扩散后硅片表面的磷硅层，提升电性能。 二、原理 1. 等离子体：随着温度的升高，一般物质依次表现为固体、液体和气体，当气体的能量 进一步升高时，其中许多，甚至全部分子或原子将由于激烈的相互碰撞而离解为电子 和正离子。这时物质将进入一种新的状态，即主要由电子和正离子（或是带正电的核） 组成的状态。这种状态的物质叫等离子体。 等离子体刻蚀：等离子体刻蚀是采用高频辉光放电反应，使反应气体激活成活性粒子， 如原子或游离基，这些活性粒子到达需刻蚀的部位，在那里与被刻蚀材料进行反应， 形成挥发性反应物而被去除。反应方程式：CF4+SiO2===SiF4+CO2 去磷硅玻璃：利用氢氟酸HF和SiO2反应形成可溶性物质溶于水中，从而去除磷硅玻 璃层。 三、适用范围 本作业指导书适用于单晶车间内，刻蚀及PSG工段所有工作人员。主要设备为台湾至圣 等离子体刻蚀机。 四、职责 1.操作员负责依照作业指导书要求，按标准进行生产作业，掌握正确的操作方法，确保 人身安全、操作安全。 在操作过程中遇到工艺或设备问题应及时向工艺或设备人员反映，相关人员须及时提 供帮助，解决问题。 五、操作流程 5.1．刻蚀开机 5.1.1. 打开电源稳压器，仪表显示电压为380V； 5.1.2．打开各工艺气路阀门； 气路阀 排风阀 5.1.3．先开回水阀门，后开进水阀门； 冷却水压力 5.1.4．打开电脑开关，启动电脑； 5.1.5．按下系统开关； 5.1.6．登陆应用软件，真空泵随之开启。 真空泵 5.2．刻蚀关机 5.2.1．关闭电脑； 5.2.2．关闭电源稳压器； 5.2.3．先关进水阀门，后关回水阀门； 5.2.4．关闭各气路阀门。 5.3．生产流程 5.3.1.在桌面上放置一张无尘布，然后放置金属垫片； 5.3.2.将200片硅片垂直放置在金属垫片上，拇指轻轻按压保证四面平整，然后放入夹具； 夹具 整理硅片 5.3.3.夹具最多装800片，上下垫假片和金属垫片； 5.3.4.拧紧夹具上的螺栓，力量适度；力度过松会导致过刻，过紧使硅片隐裂几率增大； 5.3.5.移动夹具时，一手拎手柄，一手托住夹具底部； 5.3.6.将夹具放置在腔体平台底座上，保证位置正确； 底座卡点 夹具与底座卡紧 夹具放置好后腔体内全图 5.3.7.关闭腔体门，打开工艺文件，工艺自动运行； 刻蚀操作界面 程序选择区放大图 5.3.8.工艺结束后，戴棉布手套取出夹具，防止烫伤。 5.3.9.确认刻蚀合格后，松开夹具，待硅片冷却后，进行PSG清洗及甩干。 5.4.去PSG配液和补液 5.4.1.1#槽配16L氢氟酸；其余各槽为纯水。 5.4.2.1#槽每4小时补液一次，一次补氢氟酸4L。 六、注意事项 6.1. 注意真空泵的工作状态，如果处于报警状态，需重启真空泵； 6.2. 腔体门应轻开轻关，防止碰撞； 6.3. 刻蚀合格片边缘应有一至二毫米宽刻蚀线，PSG合格片表面应脱水； 6.4. 定期检查各路气体压力和冷却水压力； 6.5. PSG清洗机2#、3#槽不能同时排水，以防溢出； 6.6. 3#槽一直保持进水，流量计开度设为最大； 6.7. 机械臂过限位，处理方法为：系统-自动停止-切手动-机械臂-回槽位-切自动-自 动启动。 本文来自网络，版权归原作者所有，请下载后，尽快删除。 556 河南义鑫威新能源科技有限公司 编号：YXW/WS-GY01 等离子体刻蚀标准作业指导书 共6页 第6页 扩散面朝上 片子叠放整齐 位置卡好 卡点 程序选择 工艺执行键 程序选择区