碳纳米管制备及其薄膜结构场发射实验研究.pdfVIP

博士后出站报告 摘 要 自1991年电弧法合成碳纳米管以来，由于其准一维结构所导致的在电 学、力学及光学等诸多方面的奇异性质，被认为是继C60之后另一种十分重要的 碳的低维材料，可望在场发射平板显示器件、储氢燃料电池、高分子复合材料及 超级电容等应用领域取得突破。为适应碳纳米管在基础研究和工业发展两方面的 广泛应用，大规模、高质量碳管粉末及薄膜的合成成为研究热点。经过十多年的 发展，碳纳米管的合成方法日趋多样化，从最初的电弧法、化学气相沉积法发展 到今天的流动催化法。特别值得关注的是，流动催化法可以高质高量地合成碳管 粉末，为其多方面的应用打下基础。 本工作分为两个部分。第一章着重介绍本实验室采用流动催化法合成碳管 的实验过程。包括低压流动催化实验装置的建立及对各主要工艺参数的最优化探 索等等。有别于常规的流动催化法，本实验完全工作于低气压下，保证了实验的 安全性并降低了实验的成本。第二章介绍了四面体非晶碳膜影响碳管薄膜场发射 性能的厚度效应。通过大量的实验表征手段，证明四面体非晶碳膜可以沉积在碳 管薄膜的表面。进一步的场发射研究显示，较薄的碳膜能显著改善碳管的场发 射，而较厚的碳膜则抑制了碳管的场发射，并对这一现象给出了定性的解释。 博士