单轴拉伸装置中硅胶膜的应力分析及静态拉伸对ECV-304细胞形态的影响.pdfVIP

摘 要 基底形变加载装置是目前比较常用的细胞加载方式，它包括单轴拉伸，等双 轴拉伸和四点弯曲梁三种。这几种类型细胞加载装置，均可设置一定的拉伸率， 黏附在加载基底材料上的细胞承受的应力情况如何，以及基底材料各个部分的应 变如何，现在已经有一些报道，但是有关单轴拉伸的情形研究得比较少。研究硅 胶膜在单轴加载过程中应力和位移的分布规律，可以给有关单轴拉伸应变的细胞 实验提供重要的理论依据。 本文首先自行设计了一套单轴拉伸装置，该装置能对体外培养的细胞施加定 量的应变，。按照我们实验的设计，该装置可对应变的大小和拉伸的方式（静态拉 伸、静态松弛、周期拉伸）进行调节，具有良好的无菌环境和稳定性，能进行大 面积的细胞培养，满足各种生化指标的检测的要求。 其次，推导出了一个应力分布数学模型，虽有一定程度的误差，但可以用作 定性分析；在定量分析部分利用有限元分析软件 ABAQUS6.7 建立了有限元模型， 得到了精确的 von Mises 应力分布和位移分布。结果显示：应力极大值始终出现在 硅胶膜的两个约束端的端点区域（四个角），而极小值出现在两个约束端的中部。 随着应变率的增大, 中央区开始出现并逐渐增大，最后融合在一起,并向周围扩展, 过渡区最后变成细环状环绕在中央区的外围；在拉伸率递增过程中边缘区的大小 没有明显变化。位移的变化规律比较一致，均表现为由固定端向动端移动的过程 中，位移逐渐增加，到动夹边缘达到最大值，位移由小到大是一个渐变的过程， 等值区域呈现规则的长条形，与硅胶膜长轴垂直。 细胞实验结果表明，对接种于硅胶膜上的 ECV—304 细胞施加 10%的静态拉 伸。比较静态细胞与静态拉伸后 15 分钟细胞长径、短径，长短经比值发现，细胞 在静态拉伸后，细胞在长径方向上有一定程度的增加，短径减小,经 T 检验，二者 之间有差异（0.05P0.1 ），从时间点上来看细胞骨架经历了一个减少—恢复的过 程。 关键词：加载装置，硅胶膜，应力分析，细胞骨架，静态拉伸 I ABSTRACT Substrate loading device is a common cell loading style now.It includes three styles: uniaxial loading, equi-biaxial loading and four-point-bend loading and these styles of loading device all can be set the certain loading frequency. How the cells which adhere to the substrate material response to the stress? And how the each parts of substrate strain? Some papers reported it. However the study of the uniaxial loading is still few. Studying the stress and displacement laws of uniaxial loading process can provide important information to the cell experiment of uniaxial loading. This study had designed a set of uniaxial loading device at first. It can impose the certain straining on the culturing cell. The strain value and style of loading(static straining, static relaxing and cyclical straining)are adjustable. It has excellent aseptic environment and operational stab