薄膜材料的研究中XRD技术.pdfVIP

M icroscope, M easurement, M icrofabrication Equipment 薄膜材料研究中的XRD 技术 周元俊, 谢自力, 张 荣, 刘 斌, 李 弋, 张 曾, 傅德颐, 修向前, 韩 平, 顾书林, 郑有炓 ( 南京大学 理系 江苏省光电信息功能材料重点实验室, 南京 2100 93) : 晶格参数应力应变和位错密度是薄膜材料的几 个重要的 理量, X 射线衍射 ( XRD) 为此提供了便捷而无损的检测手段分别从以上几个方面阐述了XRD 技术在薄膜材料研究中的 应用: 介绍了采用XRD 测量半导体薄膜的晶格参数; 结合晶格参数的测量讨论了半导体异质结 构的应变与应力; 重点介绍了利用M osaic 模型分析位错密度, 其中比较了几种不同的通过XRD 处理Mosaic 模型, 且讨论了它们计算位错密度时的优劣综合XRD 技术的理论及在以上几 个方