氧化钪氧化硅反射薄膜的355nm激光损伤特性.pdfVIP

第 29卷 第 6期 光 学 学 报 V01．29，NO．6 2009年 6月 ACTA OPTICA SINICA June，2009 文章编号 ：0253—2239(2009)06-1729-05 氧化钪／氧化硅反射薄膜的355nm激光损伤特性 马 平 陈松林 潘 峰 王 震 罗 晋 吴 倩 邵建达 ／ 中国科学院上海光学精密机械研究所 ，上海 2018000 、 ＼成都精密光学工程研究中心，四川 成都 610041；。中国科学院研究生院，北京 100039， 摘要 采用 电子束蒸发法制备 了sc。0。单层薄膜和 scz0。／sio 多层反射膜 。利用原子力显微镜、x射线衍射仪 等方法对薄膜 的表面和结构进行 了研究。采用 355nm激光研究了 scz0。／sioz多层薄膜 的损伤特性和预处理效