纳米压印光刻工艺的的研究进展和技术挑战.pdfVIP

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2017-09-03 发布于安徽
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纳米压印光刻工艺的的研究进展和技术挑战.pdf

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第31卷第1期青岛理工大学学报 VDL31No．12010 of JournalQingdaoTechnologicalUniversity 纳米压印光刻工艺的研究进展和技术挑战弋玉敲 (青岛理工大学机械工程学院，青岛266033) 摘要：图形化技术是微纳制造过程的核心工艺之一．目前，作为微纳加工主流工艺的光学光刻技术由于受曝光波长衍射极限的物理限制，其技术复杂性和设备制造成本大幅增加．纳米压印将传统的模板复型原理应用到微观制造领域，以其高分辨率、高效率、低成本和工艺过程简单的特点，引起了各国研究人员的广泛关注．作为一种接触式几何约束流变成形方式，纳米压印必然衍生出许多新的挑战性问题．在阐述纳米压印工艺构成要素的基础上，对目前的若干主要压印技术工艺变种进行了简要综述，总结出了纳米压印所涉及的基本理论问题，并对纳米压印在集成电路制造中所面临的挑战进行了分析．关键词：微纳制造；纳米压印光刻；研究进展；技术挑战文献标志码：A 文章编号：1673--4602(2010)01--0009--07 中图分类号：TN305；THl6 Research of NanoimprintLithography Progress andItsTechnical Challenges DING Yu-cheng 266033，China) (SchoolofMechanicalEngineering，QingdaoTechnologicalUniversity，Qingdao critical inmicro-and a isoneofthe nano—manufacturing．As Abstract：Patterning processes conventional have dominantnano-fabrication lithographytechniques process．the optical ashorter of isneededfor reachedtheirlimitsinresolution，andwavelengthexposurelight the more sub-lOOnmstructures，whichtendstomakepatterningsystemcompli— generating amold transfer and