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第 36卷 第 l0期 舍 扁 学 破 Voll36 No10
2000 年 10 月 ACTAMETALLURGICA SINICA October2000
高速钢W18Cr4V离子渗氮层组织 一{§
对 TiN膜与基体结合强度的影响
谢 飞 l2】 何家文
1)江苏石 ：j_院机械工程泵■丽 213o16
2)西安交通大学材料科学与工程学院．西安 710049
摘 要 采用W18Cr4V高速钢进行离子渗氯一PECVDTiN复台处理．运用透射电子显艟镜一x射线衍射仪和光学显馓
镜研究试样的表层组织结构 采用连续压^法研究 TiN 膜与基体的结旨强度 结果表明 离子渗氮能够提高疃基结台强度 通过
分析渗氮层与膜 一基界面的组织特点 认为 TiN 疃在渗氯层上一些与其具有相同或相似 晶体结构的氮化物上外延生长 盈强度
较高的渗氮层对膜的支撑是基体喾氮提高膜 一基结台强度的两太田索
关蕾词曼垦塑塑三堡墨，等离子体增强化学气相沉积，TiN，茔宣塑垦 丁 )『Ec
中图法分娄号 TG14245，TG15682 文献标识码 A 文章编号 0412—1961(2000)1(~1099-05
THE INFLUENCE 0F THE NITRIDED LAYER
STRUCTURE 0F W 18Cr4V HIGH SPEED
STEEL 0N THE B0NDING STRENGTH
0F PECVD TiN FILM S T白f 2
)fie Fei ， ．HE Ⅱ en J
1)DepartmentofMechanicalEngineering．JiangsuInstituteofPetro—ChemicalTechnology．Changzhou213016
2)MaterialsScienceandEngineeringSchoo1．Xi’anJiaotongUniversity．Xi’all710049
Correspondent：XIEFei，associateprofessor，Tel：(0519)3290265jFax：(05t9)3290011，
E-mail： 搿@Js／pt．edu．c
Manuscriptreceived 2000-04-03．in ~visedform 2000-06-19
ABSTRACT Duplextreatmentofplasmanitriding—PECVD TjN filmswasemployedforW 18Cr4V
highspeedstee1．Thephasesandstructureofthesurfacelayertreatedwereanalysedwithtransmission
electronnficroscopy(TEM)，X-raydiffraction(xRD)andopticalmicroscopyThebondingstrength
between thefilmsand thesubstratewasmeasuredbycontinuousindentation loading
． Theresults
show thattheplasmanitridingresultsiUna increaseofthebondingstrengthbetweenthefilmsandthe
substrate．Byal2alyzingcharacteristicsofthenitrid
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