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chemicalreduction[J~.ProcAmElectroplSoc,1946,33: 4—12. MatsudaH ,YaeS,WagishiT L,eta1.Developmentof electrolesslydepositednanoFe—PfilmslJ].TransInst M etalFinish,1998,76(6):241—243. RusciorC,CroialaE.Chemicaliron—phosphorusfilms EJ].JElectrochemSoc,1971,118(5):696—698. 陈红梅 ,钟夏平.化学镀 Fe—W—P合金 的工艺和镀层 的 20(。) 形貌研究l-J].广西大学学报,2005,30(4):306—309. 图4 ZnSO4/(znsO +FeSO )比值为 0.35的镀层退火 HuW Y ,ZhangB W .Electrolessdepositionofironboron 后 的x一射线衍射图谱 alloys[J].TransInstMetalFinish,1993,71(1):3O一35. Fig.4 XRD patternsofdepositwiththeratio0.35of ZnSO4/(ZnSO4+FeSO4) WangL I,ZhangBW ,G Yi,eta1.Structureandcrysta~ llization of amorphous Fe——Mo—-B alloys obtained by 3 结论 electrolessplating,lJ].JAlloysCompds,1997,255(1-2): 231—235. 我们用化学镀 的方法成功镀制了Fe—Zn非晶态 YiG ,W angLL,OuyangY F.eta1.Preparationofiron— 合金镀层 。Fe—Zn镀 层 的显微 硬度 随镀 液 中 的 tungsten—boronalloydepositsbyelectrolessplating[J]. ZnSO /(ZnSO+FeSO)比值 的先增大后减 小 ,在 比 MetalFinish,l996,94(11):31—34. ] ] ] ] ]

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