原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
过压脉冲增强磁控溅射离子镀
过压脉冲增强磁控溅射离子镀
技术的应用研究
技术的应用研究
西安理工大学 蒋百灵
西安理工大学 蒋百灵
报 告 内容
报 告 内容
一、技术原理与装备研制
一、技术原理与装备研制
二、膜系设计与梯度制备
二、膜系设计与梯度制备
三、产品开发与应用范例
三、产品开发与应用范例
一、技术原理与装备研制
一、技术原理与装备研制
靶材 Ar气氛
1 磁控溅射离子镀的技术原理
1 磁控溅射离子镀的技术原理
2
（1 ）真空环境（约4 -3
（1 ）真空环境（约4 ×10 Pa ）
×10 Pa ）
（2 ）特定电场致Ar气离化
（2 ）特定电场致Ar气离化
工件架
（3）轰击靶材而溅射出镀料 磁控管
（3）轰击靶材而溅射出镀料
（4 ）受电磁场约束运动至基片
（4 ）受电磁场约束运动至基片
（5 ）于基片表面沉积成层
（5 ）于基片表面沉积成层
一、技术原理与装备研制
一、技术原理与装备研制
2 磁控溅射离子镀技术的应用瓶颈
2 磁控溅射离子镀技术的应用瓶颈
沿靶基距方向的薄膜厚度均匀性极差（大于3μm/100mm ）
沿靶基距方向的薄膜厚度均匀性极差（大于3μm/100mm ）
12 2.8
非 平 衡 度 为 6.41 不 闭 合 状 态
10 非 平 衡 度 为 2.78 2.6 闭 合 状 态
2.4
m 8 m 2.2
µ µ
/ /
度 度 2.0
6
厚 厚 1.8
膜 4 膜 1.6
薄
薄 1.4
2
1.2
0
文档评论（0）