H2O对SnO2：F低辐射薄膜结构和性能的影响.pdfVIP

维普资讯 第 35卷第 11期 硅 酸 盐 学 报 VO1．35，No．1l 2007年 l1月 JOURNALOFTHECHINESECERAⅦ CSOCIETY November，2007 H20对SnO2：F低辐射薄膜结构和性能的影响 赵洪力1,2刘起英 ，蔡永秀1，张福成1,2 (1．亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室；2．燕山大学材料科学与工程学院，河北 秦皇岛 066004； 3．杭州蓝星新材料技术有限公司，杭州310027) 摘 要：以单丁三氯化锡(C,j-I9SnCI3)为前驱物，三氟乙酸(CF3COOH)为掺杂元素 F的引入剂，H2O为催化剂，采用常压化学气相沉积法在浮法玻璃 生产线上直接制备了F掺杂的 SnO2膜(SnO2：F)。采用x射线衍射、扫描电子显微镜、椭圆偏光仪、紫外一可见光谱研究 H20的用量对薄膜的结构和 光电性能的影响。结果表明：水对薄膜结构和性能均有显著的影响，随着催化剂H20含量的增加，SnO2：F为四方相金红石结构，薄膜结晶度提高， 致密性得到改善，膜厚有所增加，方块电阻下降。在H20含量为 1．8mol／L时效果较好 。 关键词：低辐射玻璃；在线镀膜 ：氧化锡 ；水 中图分类号：TQI71．721 文献标识码 ：A 文章编号：0454-5648(2007)11—1498—05 EFFECT OFH20 oN STRUCTUREAND PROPERTIESOFSnO2：FFILM ZHA0Hongli。-一，LIUQiying3，CAIYongxiu。，ZHANGFucheng。· (1．KeyLaboratoryofMetastableMaterialsScienceandTechnology；2．CollegeofMaterialsScienceEngineering， YnashnaUniversity,Qinhuangdao066004，Hebei；3．BlueStarNewMaterialTechnoloyg Co．LtdofHangzhou，Hnagzhou310027，China) Abstract：F—dopedtinoxidefilm (SnO2：F1waspreparedbyatmospherepressurechemicalVapordepositiononfloatglasswith monobuytltnitrichloride(C4H9SnCI3)nadtrifluoroaceticacid(CF3COOH，)as theprecursornaddopnatrespectively，nadH2OWas usedas thecatalyst．TheeffectsofthecontentofH，O onthestructurena dpropertiesoffilmswerechraacterizedbymeansofX．ray diffraction，scannnigelectronmicroscopy,ellipsometrynadultraviolet-visible．nera nifraredspe crtoscopy．ExperimenatlreSultsrevealthat htestructuresna dpropertiesofhtefimlsraegreatlYaffectedbyhteH2O content．Th eSnO2：Ffiml iStetragonalphaserutile，na dhtede． greeofcrysatllizationofhtefiml iSbetter,htedensiyt ofhtefiml iSmorecompact,htethicknessofhtefiml iSnicreasesnadthesquare resistance 口1declineswithhtenicreaseofH，0content．Th ebetterresultsCnabeobatniedwhnehtecontentofH，