射频磁控溅射制备TiO-%2c2-薄膜的研究.pdfVIP

射频磁控溅射制备Ti02薄膜的研究。 郑树凯·王天民王聪郝维昌潘锋 (北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中。 北京 100083) 。l● 。ll 4。_ll。，_l_-一I__-一●_lI-一“Ill_一一IlI●一’’II●‘-{1●‘●-l_‘_IIm，_Ill●，’l¨’4Il__ 摘要利用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上成功地制备7透明的TiOl薄膜。 在保持Ar气和0±气流量比固定的前提下，研究了溅射总压强对薄膜结构与带隙 的影响。为了提高Ti岛薄膜的光催化活性，对其进行了离子注入Sn与表面修饰 贵金属Au、Ag，结果表明离子注入Sn和表面修饰贵金属Au、Ag都有效地提高了 其七催化活性。 关键词Ti02薄膜光催化活性 离子注入 表面修饰 一HII_--一II__一‘II__HII●HlI_。_lII“_■_，_II●‘。k- 1引言 环境污染已经成为全球关注的热点问题。Ti02以其性能稳定、光催化能力强以及无毒 无害等优点而备受广大科研工作者青睐。在大于或等于TiQ禁带宽度的光子照射下，其价 带电子跃迁到导带形成电子一空穴对。它们与溶解在水中的02反应生成羟基自由基，从而 氧化还原水中的有机物达到净化水的目的…。 目前，大多数研究集中在TiOz悬浮液反应体系。这种体系在反应完成后，需要离心分 离催化剂，使其实际应用受到限制。制备固定化的光催化剂可以解决以上问题。Sol—Gel、 PECVD和浸渍一提拉法等方法都可以制备固定化的薄膜。其中，磁控溅射是～种便利的制 备薄膜的方法，它可以通过控制沉积条件来获得具有一定性能的薄膜。 本文利用射频磁控溅射技术成功地在玻璃衬底上制备了透明的光催化TiQ薄膜，并采 用离子注入、表面修饰等方法对其光催化活性进行了改善，对薄膜的结构和光催化性能进行 了测试。 2实验方法 玻璃片的清洗过程如下：首先用洗洁精清洗载玻片表面，然后把载玻片放到浓HzS04 ●国家自然科学基金资助项目(No；北师大射线束技术与材料改性教育部重点实验室基金资助。 ●帮耐凯：男，1974年3月生，博士生；主要从事环境净化材料Ti02薄膜的研究；通信地址：北京航空航天大学材 料物理与化学研究中心；邮编：100083；电话；010电子信箱：小捌罐譬@e恤《．tara 射频磁控溅射制备Ti02薄膜的研究 rain后用盘离子水冲洗两次备用。 最后用丙酮和无水酒精分别超声清洗15 薄膜的沉积过程：我irl,Fj用沈阳仪器厂生产的jGP。350C型超高真空多靶磁控溅射仪 沉积薄膜。真空室内有三个靶位：射频靶、直流靶和电磁靶。真空室与清洗室通过闸板阀隔 离，真空抽气系统由分子泵和前级机械泵组成。先在射频靶上制备Ti02薄膜。靶材是金属 ‘li靶，纯度为99．99％，直径为60mm。本底真空优于6x10Pa，然后充人Ar(99．999％) 气溅射清洗靶的表面。当辉光从红色变为蓝紫色时表明靶表面的氧化层已经除去。充人氧 气开始沉积薄膜。Ar气和Q(99．999％)气的流量比用气体质量流量计控制恒定，分别为 50 sccm和5sccrll。，射频功率为250W。、沉积时间根据需要加以改变，将在结果与讨论里面 加以说明。 室温下利用MFwA离子注入机对样品进行离子注入Sn。注入能量为30keV，剂量 为2×10”离子／cm2。根据Trim程序计算，注入深度大约为20nm。样品标记为Sn：Ti伤。 薄膜。沉积前直流靶的表面也进行了清洗。当射频靶上的“q薄膜沉积一定时间后，把衬 底从射频靶转移到直流靶上空，进行表面修饰。Au和Ag的含量通过x射线能谱分析 s 和60 2．04％。 利用X射线衍射仪对薄膜的结构进行了测试，利用原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面 形貌进行了观测，薄膜的透射光谱利用Lambda-9分光光度计测量。 薄膜的光催化性能测试：将5cm2的薄膜样品膜面向上放到容量为50mL的玻璃烧杯 crn处用一波 中。然后加入5mL浓度为2mg／L的罗