离子色谱法测定无卤化.docVIP

氧弹燃烧—离子色谱法测定电子产品中卤素 陈山丹，陶冠红* (苏州大学材料与化学化工学部，苏州 215123) 摘要：建立了氧弹燃烧离子色谱法测定电子产品中卤素的方法。样品在氧气的密闭系统内燃烧，含卤素化合物分别转化为氟化物、氯化物和溴化物等，吸收液吸收后，离子色谱法测定吸收液中F-、Cl-和Br-，从而获得电子产品中卤素的浓度。F-、Cl-和Br-的检限分别为4.05.6和20.5μg/L。关键词：离子色谱；氧弹燃烧；卤素；电子电器 卤素通常可作为阻燃剂、制冷剂、溶剂、有机化工原料、农药杀虫剂、漂白剂和羊毛脱脂剂等，目前氯和溴作为最常用的阻燃剂广泛应用于电路板、连接器及其他常见电子电器产品中。被卤化的材料具有高热抵抗功能，能够降低材料燃烧的几率。但是，此类材料在燃烧时会产生有毒化学物质，如HCl和HBr等酸性气体以及和呋喃类等剧毒化合物。因此，欧盟及一些国家相继制定了一系列无卤化相关法令、法规，限制卤素在电子产品中的使用氯化物900；溴化物900；总卤1500，这与国际电工委员会的规定大致相同。 目前测定卤素的方法主要有电感耦合等离子体原子发射光谱法，但成本较高，其他离子影响较大；X荧光光谱仪测定准确性不高，仅供筛分使用。本采用氧弹燃烧进行样品预处理，离子色谱测定，以达到无卤化控制的要求。方法所需样品少，前处理简单，污染小，且测定时间短，成本低，适合电子电器及其他产品中卤素的快速测定。 仪器试剂 Metrohm-861型离子色谱仪和Metrohm-813型自动进样器；氧弹燃烧仪；KQ5200DB型数控超声波清洗器无机滤膜：13mm0.45μm。 碳酸钠碳酸氢钠；F-、Cl-、Br-标准溶液（1000）；氧弹吸收液：水；其他试剂均为分析纯，验用水为超纯水。 离子色谱条件 流动相：1.8mmol/L Na2CO3 +1.7mmol/L NaHCO3淋洗液；再生液：H2SO4；流1.0 mL/min；进样体积20μL；Metrosep A Supp 4色谱柱；Metrosep A Supp 4/5保护柱250/4.0mm）。 试验方法 样品制备 氧弹加入约10mL称取样品0.2-0.5g至坩埚中，将放于坩埚架中并连接好镍铬燃烧丝充氧，闭合电路点燃样品，在水浴中冷却至室温。将溶液转移至100mL容量瓶中，用水彻底冲洗氧弹内壁及坩埚，转移至容量瓶，定容，脱气15min。采用0.45m滤膜针式过滤器对样品进行过滤后进样。按上述步骤在坩埚中不加样品，制备样品空白。 标准溶液配制 分别移取F-、Cl-、Br-的标准溶液10mL至100mL容量瓶中，配制成浓度为10mg/L混合标准使用液，保存于冰箱中（4 oC）备用，临用时稀释成所需浓度。分别注入离子色谱仪记录色谱图以峰面积为横坐标，质量浓度为纵坐标绘制F-、Cl-、Br-的标准曲线。淋洗液及其浓度、流速的选择 按试验方法，分别对Na2CO3NaHCO3、Na2CO3、NaOH等不同淋洗液进行试验，结果表明Na2CO3-NaHCO3淋洗液可有效地控制淋洗强度，实现不同保留离子的同时分析，因此，本验选择Na2CO3NaHCO3作为淋洗液。 Na2CO3-NaHCO3淋洗液，结果表明浓度对离子的洗脱保留时间起主要作用，在相同流速下改变淋洗液浓度只改变被测离子的出峰时间但对水负峰的位置影响不大，随着碳酸钠浓度减小，淋洗液强度也逐渐减弱，各离子的保留时间延后，分离度有一定提高，但是浓度过小会导致峰展宽，分离度有所下降，本验最佳的淋洗液浓度为1.8mmol/L Na2CO3-1.7mmol/L NaHCO3。 淋洗液的流，结果表明淋洗液流速的变化不仅可以改变被测离子的保留时间，还影响水负峰的位置，随着淋洗流速减小，被测离子及水负峰的出峰时间推后，峰展宽，峰面积增大，峰高值下降。本验最佳的流为1.0mL/min。 氧弹条件的选择 标准曲线 按优化的离子色谱条件对0.1、0.2、0.5、1、2、5、10、25、50mg/L F-、Cl-、Br-标准表范围mg/L） 线性回归方程 相关系数 F- 0.1-50 A = 0.130906*CF +0.109297 0.9999 Cl- 0.1-50 A = 0.195086*CCl -0.012132 0.9999 Br- 0.1-50 A = 0.459503*CBr -0.023557 0.9998 对空白样品连续进样测定，、和的检限分别为4.05.6和20.5 μg/L。样品 在最优色谱条件下，按试验方法对电路板和PCB板样品中卤素的含量进行测定，图1为实际样品（线路板）的色谱图，分析结果如表2。 本氧弹燃烧-离子色谱法测定电子，验结果表明F-、Cl-、Br-的回收率均在90%-110%之内，满足要求。该方法可用于电子产品卤素检测，成本低，速度快