M型六角晶系磁性薄膜的研究现状与趋势论文.pdfVIP

M型六角晶系磁性薄膜的研究现状与趋势 聂小亮兰中丈 0054 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点宴验室 四川成都6l 捅 要：综逆了近期国内外M型六角晶系铁氩体薄膜的研充现状覆进稚．着重舟绍7近十年国南外M 型石角晶车铁氧体薄膜的成腰技术、成膜吾件、j自性分析以疆研究结果等．并对国内外研究作7简单对 比，同时．指出了M型六角铁氧体薄膜的发展方向． 关键词：M型六角晶系，铁氧体薄膜，成膜技术．斑展方向 一、引言 随着信息存储技术的z己艟．人仃】村佑．缸存储密度的要求越来越高。硬盘拄术作为“算机外辅设备中 种不可替代的技术，近年来一直保持若面记录密度每年增长60％的速度“。每f宄表明：商『『J面记录 密度际了噩求读／写碰头篮且奇足够商ffJ灵坡度之外，』c于记录舟质也提出了更高旧要求，其且体要求如F (1)迂当的饱和磁化强度n与矫颇，JJL： (2)小的品粒尺J与均匀的尺寸分枷： (3)品粒之问f目磁性榀台作用要尽可能小： (4j较低f『J矫