电催化降解吲哚方酸菁的紫外-可见光谱电化学研究论文.pdfVIP

电催化降解吲哚方酸菁的紫外-可见光谱电化学研究 ∗ 张乐 陈金水 郑瑞娟 傅南雁 孙建军 福州大学 食品安全分析与检测技术教育部重点实验室 福州 350108 *通讯联系人：jjsun@fzu.edu.cn 方酸菁是一类光化学性能优异、吸收强度大、光热稳定性好的染料, 许多方酸 菁在近红外区有强烈的荧光发射，在该范围内生物分子自身荧光较弱 ,可避免背景 干扰而获得较高的分析灵敏度,适用于生物分析,包括免疫分析、DNA 测序等生命 科学的前沿领域[1],吲哚方酸菁（Ind-SQ ）是一种具有强的紫外吸收与强的荧光发 射的方酸菁染料吲哚衍生物，在生物以及离子识别方面得到广泛的应用，但是作 为一种染料同样给环境造成很大的污染，如颜色污染和 COD 的升高， Zhao 等[2] 报道了 TiO2 辅助光降解的方法，电化学降解[3]则鲜有报道。本文通过循环伏安法 （CV ）以及方波伏安法（DPV ）测定吲哚方酸菁的电化学行为，并用紫外