非晶SrTiO-%2c3-纳米薄膜退火处理方法的研究.pdfVIP

2898 功 能 材 料 2004 年增刊 （35 ）卷 非晶SrTiO3 纳米薄膜退火处理方法的研究 黄 文，孙小峰，蒋书文，张 鹰，李言荣 ( 电子科技大学, 微电子与固体电子学院, 四川 成都 610054) 摘 要：用激光脉冲沉积技术(PLD) ，以N 型（100） 均匀等厚（～100nm ）的非晶STO薄膜样品。将样品 Si 为基底在300℃下制备 100nm 非晶 STO 薄膜，分 切分成若干份分别用快速退火（RTA ），常规退火(CFA) 别用常规退火 （CFA ），快速退火 （RTA ）以及激光诱 以及激光诱导晶化（LIC ）使其结晶。其中RTA在日 导晶化 （LIC ）处理将其转化多晶薄膜，用XRD 测定 本ULVAC公司产RTP-6薄膜快速热处理系统中进行， 薄膜相组分和结晶质量，用AFM 观测薄膜表面微结