关于多光束激光干涉图案的相移控制方法研究.pdf

摘 要 随着微细加工行业的日益增长的需求，多种光刻技术也得到了发展，其中包括激 光干涉纳米光刻技术。在激光干涉纳米光刻技术应用中，经常需要制造大面积或高密 度纳米表面结构，因此，为了保证光刻图形的精确性需要对相移进行精确的控制。 本文讨论的是在多光束激光干涉纳米光刻系统中采用移相定位系统实现干涉图案 相移的方法研究。主要是在两光束或多光束激光干涉纳米光刻系统中，将两束或多束 相干激光光束组合迭加．发生干涉。通过控制一个或多个移相定位系统使光路的光程 发生改变，实现干涉图案的相位移动及定位。 移相定位系统可通过电压源电压的改变．在与入射光垂直平面方向推动一个光楔 或通过电压源电压的变化．在与入射光垂直平面方向控制一个液晶显示器件(LCD)． 或通过电压源电压的变化，控制一个驱动器拉伸光纤实现干涉图形的相移等。在本文 中，移相定位系统由电压源、位移驱动器和反射镜组成。通过给位移驱动器施加不周 的电压，使其驱动反射镜沿着它的轴向方向移动，通过改变光程实现相位移动及定位 这种移相的系统可蚍通过检测干涉图形的相位差采用反馈(如锁相)控制干涉图形的 相位移动．减少相位漂移使图案定位更精确。 关键词：纳米技术激光干涉光刻移相定位系统相移控制 ABSTRACT new andnaDo Wlththe demandsfrom1ndustriesforfabricarionof micro increasing malerials．d“ricesandSVslemslaserInterfefence hasbeen nanolithographytechnology area Inlaserinterference or developed nanolithograohyapplicationslarge highdensity ／]{ff／o．surface aleoften Thereforethe nbaseshifisbouldbe st／2／ct／2res required precise to controlledensuretheaccuracyofInterference panems lna laser Thisdissertationthemethodofnhase—shiftcontrolmulti—beam presents interference a toachieve nanolithographysystemusingphase—shiftpositioningsystem intefference shiftcontrolInthetwo-beanlormulti—beamlaser phase nanolitho口aph3 two coherentbeamscombineand the system ormore laSer interkre．bycomrolling ofthe to