光学和电子束曝光系统之间匹配与混合光刻技术.pdfVIP

第 卷 增刊 半 导 体 学 报 ２７ 犞狅犾．２７ 犛狌 犾犲犿犲狀狋 　 　 　 　 　 　 狆狆 年 月 ， ２００６ １２ 犆犎犐犖犈犛犈犑犗犝犚犖犃犔犗犉犛犈犕犐犆犗犖犇犝犆犜犗犚犛 犇犲犮．２００６ 光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术  陈宝钦 刘 明 徐秋霞 薛丽君 李金儒 汤跃科 赵 珉 刘珠明 王德强 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 任黎明 胡 勇 龙世兵 陆 晶 杨清华 张立辉 牛洁斌 　 　 　 　 　 　 　 　 （中国科学院微电子研究所 微细加工与纳米技术研究室，北京 １０００２９） 　 摘要：介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术，包括：（）光学曝光系统与电子束曝光 １ 系统的匹配技术；（）投影光刻和 混合曝光技术；（）接触式光刻机和 混合曝光技术；（） ２ 犑犅犡５０００犔犛 ３ 犑犅犡５０００犔犛 ４ 大小束流混合曝光技术或大小光阑混合曝光技术；（）电子束与光学曝光系统混合光刻对准标记制作技术 该技术 ５ ． 已成功地应用于纳米器件和集成电路的研制工作，实现了２０狀犿线条曝光，研制成功了２７狀犿犆犕犗犛器件；进行了 ５０狀犿单电子器件的演试；并广泛地用于 １００狀犿化合物器件和其他微／纳米结构的制造． 关键词：微光刻技术；微纳米加工技术；电子束直写；匹配与混合光刻技术 ： ； 犈犈犃犆犆 ２５００ ２５５０犌 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） 犜犖３０５６ 犃 ０２５３００００１０６ 　　　 　　　 子束邻近效应校正技术”和“电子束光刻常用的抗蚀 １ 引言 剂工艺技术研究”我们已经发表了专题论文，本文将 　 重点介绍光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合 中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术 光刻技术（犿犪狋犮犺牔犿犻狓犲犱犾犻狋犺狅狉犪犺 狋犲犮犺狀狅犾狅 犵 狆狔 犵狔 研究室拥有美国产犌犆犃３６００犉图形发生器和犌犆犃 犫犲狋狑犲犲狀犈犫犲犪犿 犾犻狋犺狅狉犪犺 狊狊狋犲犿 犪狀犱狅狋犻犮犪犾 犵 狆狔 狔 狆