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24 6 Vol. 24 No. 6
2002 11 Infrared T echnolo y Nov. 2002
*
姜 军, 周 芳, 曾俊英, 杨铁锋
( , 650223)
: 着重从涂胶曝光( 包括光源和曝光方式等) 光刻胶和深度光刻等方面介绍了光刻技术的现状
和未来的发展趋
: 光刻; 涂胶; 光刻机; 分辨率; 光刻胶; 曝光
: TN215 : A : 1001-889 1( 2002) 06-0008-06
[ 1] 118 ,
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[ 2]
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