子计画四：奈米压印技术应用於制作复合材料次波长光学元件.pdfVIP

子計畫四：奈米壓印技術應用於製作複合材料次波長光學元件之研究 總計畫 :奈米壓印於顯示器關鍵元件技術之基礎理論與應用研究 Imprint Technology Applied in the Fabrication of Nanostructures on Composite Materials 計畫編號： NSC 96-2221-E-007-137 執行期間： 96/08/01 - 97/07/31 計畫主持人：宋震國 國立清華大學動力機械系 教授 計畫參與人員：謝志瑋、 洪育民、姚中翰 、陳旼暉、呂英嘉 在應用方面，除了完成自製一台壓印設 一、中文摘要 備機台以外，同時蒐集 與分析目前相關的專 利 與製程，對於各子計劃負責之元件已完成 本整合型計畫以奈米壓印於顯示器關鍵 細部規格設計，準備將此壓印技術應用在製 元件技術之基礎理論與應用研究作為目標 。 作光電元件上 ，並特別評估使用壓印製程的 總共包括 四個子計畫：1. 奈米壓印結構偏極 可行性，使本計畫能真正成為產業導向型的 光學元件特性分析與應用；2. 利用創新之次 學術基礎與應用研究。 波長雷射干涉技術與類鑽石膜薄技術製作超 硬奈米壓印模具之研究； 3. 奈米壓印技術應 關鍵詞： 奈米直接壓印技術、奈米壓印製程 用於製作複合材料次波長光學元件之研究； 設備、金屬材料、複合材料、玻璃、分子動 4. 直接壓印介電材料製作奈米光學元件之 力學模擬 基礎研究與製程研發 。本報告為一年期整合 型研究計畫中 ，子計畫四的整合報告，研究 期間從96 年8月 1日至 97 年7月 31日。計 Abstract 畫目標主要探討高分子與金屬複合材料之 次 The objective of this research is focused 微米結構奈米壓印成型機制與製程設備研發。 on the fabrication of submicron and nano-scale 本年度計畫中除了搭配使用分子動力學，模 metallic structures applied to components of 擬流程從模具開始下壓使薄膜產生彈性變形、 LCD displays by using nanoimprint technology. 差排現象、塑性變形、材料堆積(Pile up) 、保 The integrated project includes four 壓、拔膜等，對成型機制做深入的理論探討 ， subprograms: 1. The systemic design and 此外尚可進一步探討壓印實驗過程中所無法 analysis of sub-wavelength optical components; 細部觀察之塑性成型機制，了解滑移線場與 2. A Research on ultra hard nano-imprinting 差排移動方向對於壓印成型結果之影響。實 molds fabricated by a novel sub-wave length 驗部分利用壓印製程 完成玻璃以及複合材料 laser interference lithography and diamond like 高分子 /鋁薄膜之次微米結構，經由不同厚度 carbon technology; 3. A study on the imprint 的 薄膜製備、製程溫度與壓力控制、模具製 technology applied in the fabrication of 作、壓印結果分析討論