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理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao) 612 Acta Phys. Chim. Sin., 2008, 24(4) ：612-618 April [Article] 不同电解质溶液对聚吡咯修饰膜性质的影响 颖1, 李浙齐1 徐洪峰1 吴艳波1 杨凤林2 1 2 ( 大连交通大学环境与化学工程学院, 辽宁大连 116028; 大连理工大学环境科学与工程系, 辽宁大连 116024) 摘要： 以对甲基苯磺酸钠(p TSNa)为掺杂剂在不锈钢电极表面恒电位合成聚吡咯(PPy)修饰膜, 采用循环伏安 法在-1.6 - 0.8 V 大范围扫描研究了修饰膜在H SO 、Na SO 、NaOH 电解质溶液中的氧化还原行为. 结果表明, 2 4 2 4 + 在H SO 溶液中, 以H 的脱出(氧化)/嵌入(还原)为特征, 并发现聚吡咯在酸性溶液中所特有的质子还原峰. 在 2 4 + Na SO 和NaOH 溶液中, 以Na 的脱出(氧化)/嵌入(还原)峰为特征. FT IR 吸收光谱显示, 经NaOH 处理后, 聚吡 2 4 咯膜的长共轭结构被完全破坏, 而经H SO 和Na SO 处后, 膜的共轭结构未发生变化. 2 4 2 4 关键词： 聚吡咯; 氧化还原行为; 电解质溶液; FT IR 中图分类号： O646 Effects of Different Electrolyte Solutions on Characteristics of Polypyrrole Modified Films TIAN Ying1, LI Zhe Qi1 XU Hong Feng1 WU Yan Bo1 YANG Feng Lin2 1 ( College of Environmental and Chemical Engineering, Dalian Jiaotong University, Dalian 116028, Liaoning Province, P. R. China; 2Department of Environmental Science and Technology, Dalian University of Technology, Dalian 116024, Liaoning Province, P. R. China)