双层陶瓷膜共烧结制备过程中应力分析.pdfVIP

双层陶瓷膜共烧结制备过程中应力分析.pdf

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第 24 卷 第 3期 无 机 材 料 学 报 Vol. 24 , No. 3 2009年 5 月   Journal of Inorgan ic M aterials  M ay, 2009 文章编号 : 1000324X (2009) DO I: 10. 3724 / SP. J. 1077. 2009. 00617 双层陶瓷膜共烧结制备过程中的应力分析 邱鸣慧 , 冯 君 , 范益群 , 徐南平 (南京工业大学 化学化工学院 材料化学工程国家重点实验室 , 南京 2 10009) 摘 要 : 依据 “受限烧结 ”理论 ,分析计算刚性支撑体上单层陶瓷膜在烧结过程中受到的应力. 结果表明:单层膜在受限 烧结过程中受到来 自支撑体的拉应力作用 ,导致烧结推动力较 自由烧结时降低 ,所需要的烧结温度比无支撑材料的烧 α 结温度高. 对于 A l O 单层膜和 ZrO 单层膜 ,分别计算其在受限烧结过程中受到的推动力 ,通过与膜层强度相关联 , 2 3 2 确定各自合适的烧结温度分别为 1350和 1180 ℃. 进一步采用层状材料的共烧结应力模型计算双层膜在共烧结过程中 α α μ μ 顶层 ZrO 膜对底层 A l O 膜的压应力 ,当底层 A l O 膜的厚度为 15 m 时 ,顶层 ZrO 膜厚度需大于 10 m ,压应力 2 2 3 2 3 2 α 的促进作用才能实现 ZrO / A l O 双层膜在 1200 ℃下共烧结. 2 2 3 关  键  词 : 陶瓷膜 ; 受限烧结 ; 共烧结 ; 烧结应力 中图分类号 : TQ 174      文献标识码 : A Stress Ana ly sis in the Prepara tion of B ilayer M em branes by Cosin ter ing Process Q IU M ingHu i, FEN G Jun , FAN YiQun , XU N anP ing ( State Key L aboratory of M aterialsO rien ted Chem ical Engineering, Co llege of Chem istry and Chem ical Engineering, N anj ing U n iversity of Techno logy, N anj ing 2 10009 , Ch ina) A b stract: B a sed on the theory of “con strained sin tering ”, stre ss of the m emb rane exerted by a rigid sub strate wa s calcu lated. R e su l

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