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图形化衬底上外延结构的形态演化1 倪 勇，何陵辉 中国科学技术大学 力学和机械工程系 （230026 ） E-mail ：lhhe@ 摘 要：本文采用相场数值模拟研究了图形化衬底上外延形态演化及其可调控性。发现通过 在衬底表面预制合适的图形，改变外延层表面初始的应变分布，从而有效控制外延层表面的 形态演变路径，可以获得高度有序的量子点结构。 关键词：图形化衬底 自组装 相场模拟 1. 引 言 为了提高应变自组装量子点结构生长的形态可控性，人们提出和发展了一系列的图形化 衬底技术。这种技术的主要思想是通过各种手段在衬底表面预制图形，有意识地改变外延层 表面演化的动力学路径。从图形来分，目前这种图形化衬底技术主要包括两类。一是几何图 形化，也就是使衬底表面具有几何周期性结构来影响和控制量子点的生长。衬底表面的这种 几何图形一般可以是晶体生长过程中形成的周期性台阶结构，也可以通过传统的光刻技术蚀 刻或选择性沉积生长得到。实验表明把衬底表面预制成合适的几何图形，可在一定程度上改 [1-4] [5] 善量子点的均匀性和密度 。例如文献 通过选择性沉积Si得到具有周期性分布的平台 (mesa)结构，然后在这种图形化的Si衬底上沉积Ge原子。在长条状的平台上发现Ge量子点会 形成尺寸均匀，排列有序的一维结构，在方形平台上，Ge量子点会优先在平台的四个角点 形核长大，并形成有序结构。二是应变图形化，也就是在衬底表面预制周期性的应变分布来 影响和控制量子点的生长。Tersoff等[6]最先通过里埋应变岛在衬底表面产生周期性的应变分 布，可以得到尺寸和分布的均匀性大大改善的量子点阵列。例如通过多层生长，在各向同性 外延系统中可以得到多层竖直 自对准量子点结构[1,6]，在强立方各向异性外延系统中可以得 到多层竖直斜对准结构[7-9] 。另外Li等[10]在InAs/InP(100)系统中也得到了多层竖直斜对准的 量子线结构，这种斜对准的形成机制不能用弱立方各向异性来解释，有人推测也许是里埋量 子线阵列的几何形状的影响所致，具体解释尚需进一步深入研究。Capellini等[11]进一步通过 调节里埋应变岛的几何形状和里埋深度，得到了局部高度有序的自组装量子点结构。Shiyaev 等[12], Brune等[13]和Teichert[14]等成功地利用亚表面位错网络在衬底表面产生周期性的应变 分布得到更有序的应变自组装量子点结构。还有人提出利用组分调制结构也可以使衬底表面 [15,16] 形成周期性应变分布，从而获得有序的量子点结构 。 本文的目的是建立应变外延结构形态演化的有效数值模拟方法。虽然Zhang 等[17]和 Chiu[18]先后建立了弹性自由边问题耦合表面扩散场的有限元列式，并对一系列的外延生长问 题进行了大尺度模拟研究[19-21] 。然而这种模型采用实时追踪界面的方法，在处理外延生长表 面形貌发生复杂变化，特别是发生拓扑结构变化时，需要发展更精细的网格生成技术并加入 人为的判据来处理该处的网格是聚合还是分裂，因此有固定的局限性。比较而言，近年来不 1 本课题得到高等学校博士学科点专项科研基金(20020358011)资助。 - 1 - 断发展的相场方法通过界面捕获方法跟踪界面，可以模拟界面形貌的任意变化。并且相场方 法还可以很容易的同时考虑其它的应力松弛模式，如位错的形核与动力学[22, 23]、互扩散[24] 等。一般利用相场方法解决此类问题的关键主要是求解任意缺陷的变形和弹性自由边问题。 最近Wang等[25]在细观弹性相场模型的基础上有效地解决了弹性自由边问题，并建立了应变 外延层表面演化的二维相场模型。然而该模型未能考虑弹性各向异性的影响，这在大部分外 延体系均为