等离子体、辐射能和超声波技术在染整中的应用.pptVIP

4.紫外线辐射改善蚕丝的染色和印花性能； 5.紫外线辐射固着（加速树脂、黏合剂等在织物上的固着）； 6.紫外线辐射漂白（催化H2O2、NaClO2等的分解）； 7.紫外线光催化脱色 （如染整污水的脱色）。 激光辐射在纺织染整加工中的应用 激光：受激辐射下强化的光。 1.紫外线激光辐射纤维改性：激光辐射后，纤维出现形态变化（凹凸纹）、结构变化（表面结晶度下降）、化学变化（键断裂、表面活性基团增加） 2. 激光辐射改性印花； 3. 激光辐射活性染料固色； 4. 激光雕刻和对花； 5. 激光测定染料浓度和上染速度。 超声波在染整加工中的应用 超声波：一种频率很高的声波，超出人类听觉范围)以上的频率振动。一般超过20千赫 1.纺织助剂加工中的应用：制备乳化液、调浆等。 2.纺织品印染前处理：洗毛、绢纺原料精练、退浆、煮炼、漂白等 3.染色中的应用：帮助染料溶解、分散；加速上染；改善纺织品透染程度等。 4.后整理及水洗中的应用 5.其它应用：如地毯的粘合 Thank you 等离子体由“自由”的带电粒子组成，如同金属对静电场的屏蔽一样，对任何试图在等离子体中建立电场的企图，都会受到等离子体的阻止，这就是等离子体的德拜（Debye）屏蔽效应。相应的屏蔽层称为等离子体鞘层。 设想在等离子体中插入一电极，试图在等离子体中建立电场。在这样的电场下，等离子体中电子将向电极处移动，离子则被排斥。结果由电极所引入的电场仅局限在较小的尺度的鞘层中，如图所示。 若等离子体的温度为零，则足够多的电子可以接近于电极（设电极表面敷以介质，表面不收集电流，也不产生复合），屏蔽层的厚度将趋于零，电场则完全被屏蔽。若等离子体的温度不是零，那么在屏蔽后电势满足Te/e的位置，电子可以挣脱此势阱而逃逸出，因而电势没有完全被屏蔽掉，有Te/e量级的电势将延伸进入等离子体中，屏蔽层的厚度也有限。下面对这种静态的德拜屏蔽过程作一个简要的分析。静电场满足泊松（Poisson）方程，离子和电子的数密度，在热平衡状态下，它们满足玻尔兹曼分布， 将（1-5）式代入泊松方程，可以得到关于电势方程，这是一个典型的非线性方程，一般没有解析解。由（1-5）式可以看出，当时，，即电子将被捕获而大量积累，离子则被排空，这些电子产生的电场屏蔽了大部分的电势。如果不考虑接近于电极处电势较大的区域，只考察电势满足的空间，则可以将玻尔兹曼分布作泰勒展开，并取线性项，于是有， （1-6） 这里，我们定义电子与离子的德拜长度、，等离子体的德拜长度为， ， （1-7） 在一维情况下，上述方程的解为， （1-8） 即电势将以指数衰减的形式渗透在等离子体中，等离子体屏蔽外电场的空间尺度就是（1-7）式定义的德拜长度。 静态等离子体的德拜长度，主要取决于低温成分的德拜长度。在较快的过程中，离子不能响应其变化，在鞘层内不能随时达到热平衡的玻尔兹曼分布，只起到常数本底作用，此时等离子体的德拜长度只由电子成份决定。 在等离子体中，每一个电子或离子都具有静电库仑势，它同样会受到邻近其它电子与离子的屏蔽，屏蔽后的库仑势为， 3.5 等离子体辐射 激发辐射 hv =En-Em=ΔE 复合辐射 hv =εe+(Ei-Em) εe—复合前自由电子的动能 Ei—电离能 Em—复合后该电子所处的能级 ++ - + Em hν εe En Em hν=ΔE 轫致辐射 回旋辐射 - E - hv B - hv × × × × × × × × × × × × × × × × - × × × × × × × × hv 1、低温等离子体在保鲜、杀菌、除臭等方面产品开发，目前已开发出适用于冰箱、空调、洗衣机的发生器。 2、“低温等离子体有机废气净化设备”利用低温等离子体产生的具有高氧化性的臭氧，在催化剂的作用下，使有机废气在较低的温度完全转化。该设备可应用于溶剂厂、印染厂、油漆厂等有机废气排放源。 3、“低温等离子体废水净化设备”可使皮革厂、造纸厂、印染厂、游泳池等排放的废水经处理后，达到无色无味、无菌的效果。 此外还有介质阻挡放电，射频放电，滑动电弧放电，射流放电，大气压辉光放电，次大气压辉光放电 在大气压条件（空气介质和通常的气压）下产生的弱电流放电称为电晕放电。它是一种高电场强度、高气压（一个大气压）和低离子密度的低温等离子体。在对两个电极施加一高电压时便产生电晕放电。两极间产生的电火花被绝缘体阻断，为了引起电晕放电，就必须在其中的一个电极保持高电场，而电子在高电压下沿绝缘板方向加速。 电晕放电产生的等离子体中含有电子、离子、自由基、激发分子和未反应的分子。由于介质