PECVDSiNx薄膜应力的研究.pdfVIP

　第 20 卷第 3 期　　　　　　　　半　导　体　学　报　　　　　　　　 . 20, . 3　 V o l N o 　1999 年 3 月　　　　　　 　　　　　　 . , 1999　 CH IN ESE JOU RNAL O F SEM ICONDU CTOR S M ar PECVD SiNx 薄膜应力的研究 赵永军　王民娟　杨拥军　梁春广 ( 电子部第 13 研究所　石家庄　050002) 摘要　 等离子增强化学气相淀积 ( , ) P lasm a enhanced Chem ical V aper D