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第八章 离子束加工 离子束加工： 利用离子束对材料进行成形和改性的加工方法。 第一节 离子束加工原理、分类和特点 第二节 离子束加工装置 第三节 离子束加工的应用 第一节 离子束加工原理、分类和特点 ⒈离子束加工的原理和物理基础 ⒉离子束加工分类 ⒊离子束加工的特点 第一节 离子束加工原理、分类和特点 ⒈离子束加工的原理和物理基础 ： ⑴离子束加工的原理： 离子束加工的原理是在真空条件下，将离子源产生的离子束 经过加速聚焦，使之撞击到工件表面，靠微观的机械撞击 能量来加工的。 与电子束相比： 1)相同点： ①在真空条件中进行 ②粒子束加工 2)不同点： ①带正电荷的离子。 质量比电子大数千、数万倍，如氩离子的质量是电子的7.2 万倍。 ②靠微观的机械撞击能量来加工的。 离子束比电子束具有更大的撞击动能。 第一节 离子束加工原理、分类和特点 ⑵离子束加工的物理基础： 离子束射到材料表面时所发生的 撞击效应 溅射效应 注入效应 1)离子的撞击效应和溅射效应： 具有一定动能的离子斜射到工件材料(或靶材)表面时，可以将表面的原子撞击出 来，这就是离子的撞击效应和溅射效应。 离子刻蚀(离子铣削) 、离子溅射沉积和离子镀 ①离子刻蚀(离子铣削) ： 如果将工件直接作为离子轰击的靶材，工件表面就会受到离子刻蚀(也称离子 铣削)。 ②离子溅射沉积和离子镀 ： 如果将工件放置在靶材附近，靶材原子就会溅射到工件表面而被溅射沉积吸附，使工件表面镀上一层靶材原子的薄膜。 2)注入效应： 如果离子能量足够大并垂直工件表面撞击时，离子就会钻进工件表面，这就是离子的注入效应。 第一节 离子束加工原理、分类和特点 ⒉离子束加工分类 离子束加工按照其所利用的物理效应和达到目的的不同，可以分为四类： ⑴离子刻蚀 ⑵离子溅射沉积 ⑶离子镀 ⑷离子注入 1)离子刻蚀，离子溅射沉积和离子镀： 利用离子撞击和溅射效应的离子刻蚀，离子溅射沉积和离子镀。 2)离子注入： 利用注入效应的离子注入。 第一节 离子束加工原理、分类和特点 ⑴离子刻蚀： 用能量为0.5-5keV的氩离子倾斜轰击工件，将工件表面的原子逐个剥离。 如图6-8a所示。其实质是一种原子尺度的切削加工，所以又称离子铣削。 这就是近代发展起来的毫微米（纳米）加工工艺。 ⑵离子溅射沉积： 采用能量为0.5-5keV的氩离子，倾斜轰击某种材料制成的靶，离子将靶 材原子击出，垂直沉积在靶材附近的工件上，使工件表面镀上一层薄膜。 如图6-8b所示，溅射沉积是一种镀膜工艺。 ⑶离子镀(离子溅射辅助沉积) ： 用0.5-5keV的氩离子，同时轰击靶材和工件表面。 如图6-8c所示。轰击工件表面的目的是为了增强膜材与工件基材之间的 结合力。也可将靶材高温蒸发，同时进行离子撞击镀膜。 ⑷离子注入： 采用5—500keV较高能量的离子束，直接垂直轰击被加工材料，离子就钻 进被加工材料的表面层，使工件表面层含有注入离子后，就改变了化学成 分，从而改变了工件表面层的机械物理和化学性能。 如图6-8d所示。根据不同的目的选用不同的注入离子，如磷、硼、碳、 氮等。 第一节 离子束加工原理、分类和特点 第一节 离子束加工原理、分类和特点 ⒊离子束加工的特点 ⑴离子束加工是所有特种加工方法中最精密、最微细的加工方法，是纳米加工技术的基础。 ⑵污染少，特别适用于对易氧化的金属、合金材料和高纯度半导体材料的加工。 ⑶加工应力、热变形等极小，加工质量高，适合于对各种材料和低刚度零件的加工。 ⑷离子束加工设备费用贵、成本高，加工效率低，应用范围受到一定限制。 第二节 离子束加工装置 ⒈离子束加工装置： 离子源、真空系统、控制系统和电源等部分组成。 ⑴离子源 ⑵真空系统 ⑶控制系统和电源 与电子束加工装置类似。主要的不同部分是离子源系统。 第二节 离子束加工装置 ⒉离子源： ⑴离子源的作用： 用以产生离子束流。 ⑵离子束流产生的基本原理和方法： ①离子束流产生的基本原理： 使原子电离。 ②离子束流产生的方法： 把要电离的气态原子(如氩等惰性气体或金属蒸气)注入电离室，经 高频放电、电弧放电、等离子体放电或电子轰击，使气态原子电离 为等离子体(即正离子数和负电子数相等的混合体