多元氧化物电子薄膜的倒简式溅射技术研究.pdfVIP

多元氧化物电子薄膜的倒简式溅射技术研究 李言荣，刘兴钊，陶佰万 (电子科技大学微电子与固体电子学院；成都610054) 摘要钙钛矿结构氧化物薄膜是现代电子器件和功能组件研制的重要物质基础，溅射沉积是 电子薄膜制备的最重要和最常用的方法之一。本文基于氧化物薄膜材料的倒筒式溅射方法，为了 有效地减弱负氧离子的反溅射效应，提出在余辉等离子区沉积薄膜，成功地将薄膜成分调整在化 学计量比范围内。针对氧化物介电薄膜沉积速率低(一10nm／h)的问题，研制出一套对靶溅射系统， 将成膜速率提高了5倍，大幅度缩短了沉积时间。针对尺寸放大到1英寸以上后存在的成分与厚 度均匀性差的问题，通过对溅射过程中成分、厚度分布的模拟计算与实验规律的研究，发明了一 种基片“双轴旋转”的特殊运动方式，大大改善了3英寸薄膜的厚度均匀性(优于10％)。在解决了 以上氧化物薄膜的共性技术问题之后，研制出热释电系数高达10-7C／(cn?·K)的l英寸Bsr薄膜、 RS≤0．5mO的3英寸YBCO双面超导薄膜，以及时≤10。3的压控STO薄膜。 关键词：氧化物薄膜倒筒式溅射方法沉积速率 1研究的目的意义 2项目难点及解决方法 在现代信息功能材料中，AB％型钙钛矿结 钙钛矿结构多元氧化物薄膜的溅射制备存在 构或其派生结构的化合物占据很大比重，也具有 着：化学计量比控制难、成分及厚度均匀性差、 非常丰富的性质，如：铁电、压电、热释电、超 结构及性质的可控性差等共性技术难题，本文针 导、巨磁阻、光电等，可以说：AB03型钙钛矿对这些共性技术难点进行了理论和实验的系统研 结构的多元氧化物成为了现代信息功能材料的典 究，提出了相应的解决方法，取得了显著效果， 并在三种典型氧化物薄膜中实现了良好的应用。 型代表。如：(Bao．7m8Sro舢o．2)Ti03(以下简写为 2．1化学计量比的控制难 BST)铁电薄膜是研制非制冷红外焦平面探测器阵 列的主要材料之一，其发展使红外成像技术步入 由于多组分氧化物中各元素的溅射产额不 同。导致薄膜组分与靶材组分的偏离。同时，与 一个新的时代；YlBa2Cu307-8(YBCO)高温超导材 料的发现突破了超导应用的“温度壁垒”，给超导 技术的实际应用开辟了广阔的应用前景；m／ 作者简介：李言荣，教授、博士生导师，微电子与固体电 子学院院长，长江特聘教授，国家杰出青年基金，国家有 HTSC多层外延薄膜既具有高温超导薄膜的较低 关973重大项目首席科学家。主要从事电子材料与元器件 微波表面电阻特性，也兼有铁电薄膜的非线性介 的教学、科研和人才培养工作。目前从事高温超导薄膜与 微波器件、铁电薄膜与应用、纳米介电薄膜生长技术、siC 电性质，是研制高品质可变电容器(铁电变容管) 外延膜技术等方面的研究。承担国家973、863、自然基 及压控微波电路(延迟线、移相器、压控谐振器、 金、预研等十余项在研项目。自1991年以来，已发表刊物 压控滤波器、压控振荡器等)的基础。现代电子 论文135篇，其中在国外重要刊物《PIIy8．Rev．B》、 器件的主要发展趋势是集成化组件，大尺寸薄膜 J．Vac．Sei．Tedm01．、U．SolidSt．Chem．、(SolidSt．C锄． Solid