直接键合微腔结构的光谱特性.pdfVIP

第 卷 增刊 半 导 体 学 报 ２７ 犞狅犾．２７ 犛狌 犾犲犿犲狀狋 　 　 　 　 　 　 狆狆 年 月 ， ２００６ １２ 犆犎犐犖犈犛犈犑犗犝犚犖犃犔犗犉犛犈犕犐犆犗犖犇犝犆犜犗犚犛 犇犲犮．２００６ 直接键合微腔结构的光谱特性  劳燕锋 吴惠桢 黄占超 刘 成 曹 萌 　 　 　 　 　 　 （中国科学院上海微系统与信息技术研究所 信息功能材料国家重点实验室，上海　２０００５０） 摘要：采用直接键合方法制备了法布里 珀罗共振微腔结构，并用传输矩阵方法对其反射光谱进行了理论模拟 通  ． 过构造键合界面两侧多层薄膜材料的光学厚度呈现指数规律变化的模型，分析了键合效应对微腔结构光学特性的 影响 结果表明：在较低退火温度下（如 ）进行直接键合有利于高光学性能微腔结构的制备，而提高退火温度 ． ５８０℃ 则需要在键合结构中加入缺陷阻挡层以提高键合质量． 关键词：晶片直接键合；界面缺陷；反射光谱 ： ； ； 犘犃犆犆 ７２８０犈 ７２１０犉 ４２２５犌 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） 犜犖４０５ 犃 ０２５３００３０４０５ 　　　 　　　 性能的规律，该 犉犘腔是一种垂直腔型面发射激光 １ 引言 器件结构，因此所得结果对于实际器件的研制具有 　 指导意义． 近年来，键合技术在光电子和微电子器件的研 制中发挥了极大的作用 首先，它作为传统外延材料 实验 ． ２ 　 生长技术的拓展，可以进行高质量的异质材料集成， ［］ １ 基材料由分布布拉格反射镜（ 如 和 的异质集成 其次，利用键合技术可 犐狀犘 犱犻狊狋狉犻犫狌狋犲犱 犐狀犘 犛犻 ． 以将已研制的器件转移到特殊材料上，从而拓展该 ， ）和工作在 的量 犅狉犪 狉犲犳犾犲犮狋狅狉犇犅犚 λ＝１３１０狀犿 犵犵 器件的应用范围，如将 发光二极管键合到 子阱分别作为共振腔的一个腔镜和有源区， 由